Occasion TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #293700415 à vendre en France

L'équipement TEL/TOKYO ELECTRON MARK II est un équipement sophistiqué de traitement des photorésistances utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour des applications avancées de lithographie. Ce système est conçu pour fournir des capacités précises de contrôle et de haut débit pour le dépôt et la fixation de matériaux photorésistants sur des plaquettes semi-conductrices. Le procédé photorésist est une étape critique dans la fabrication des circuits intégrés, car il définit le motif des caractéristiques du circuit sur la surface de la plaquette. TEL MARK II est équipé d'une technologie de pointe pour obtenir des performances supérieures en termes de résolution, d'uniformité et de productivité. La machine dispose d'un mandrin de plaquette de haute précision qui fournit un positionnement stable et précis des plaquettes pendant le processus de dépôt photorésist. Cela garantit que la résine photosensible est appliquée uniformément sur la surface de la plaquette, ce qui conduit à des résultats de fixation cohérents. Un des composants clés de l'outil TOKYO ELECTRON MARK II est le module de distribution de photorésist, qui est chargé de distribuer avec précision le matériau de photorésist sur la surface de la plaquette. L'actif est conçu pour traiter une variété de formulations de photorésist, y compris des photorésists positifs et négatifs, pour répondre à différentes exigences de processus. Le module de distribution utilise des algorithmes de contrôle avancés pour obtenir un contrôle précis du volume et du débit de la résine photosensible, assurant une couverture uniforme de la plaquette. En plus du module de distribution, le modèle MARK II est équipé d'un module de vrillage sophistiqué qui est utilisé pour tourner la plaquette à grande vitesse pour obtenir un revêtement photorésist uniforme. Le module spin coater dispose de profils de spin programmables qui peuvent être personnalisés pour optimiser l'épaisseur et l'uniformité du revêtement photorésist pour différents types de matériaux photorésist et les conditions de processus. L'équipement TEL/TOKYO ELECTRON MARK II comprend également un module de plaque chaude multi-étages pour les procédés de cuisson post-exposition (PEB). Le module de plaque chaude est conçu pour assurer un contrôle précis de la température et un chauffage uniforme de la plaquette afin d'améliorer les performances de photorésistance et d'améliorer l'adhérence et la stabilité de la couche de photorésist. De plus, le système TEL MARK II est équipé d'outils de métrologie avancés pour la surveillance et le contrôle in situ des paramètres du processus photorésist. L'unité dispose d'un suivi en temps réel des paramètres critiques du processus tels que l'épaisseur du film, l'uniformité et la composition chimique, permettant un retour d'information et un ajustement immédiats pour garantir des résultats de processus cohérents et fiables. Dans l'ensemble, la machine TOKYO ELECTRON MARK II est un équipement de traitement de photorésistance de pointe qui offre des capacités avancées pour des applications de lithographie haute performance dans l'industrie des semi-conducteurs. Avec ses fonctions de contrôle de précision, de haut débit et de métrologie avancée, cet outil est bien adapté aux procédés exigeants de fabrication de semi-conducteurs qui nécessitent un contrôle serré du dépôt et de la fermentation des photorésistances.