Occasion TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #293748580 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON MARK II est un système de photorésistance utilisé pour fabriquer des composants semi-conducteurs. Il s'agit d'un procédé utilisé pour créer la dernière génération de circuits intégrés (CI) et d'autres produits à partir de silicium polycristallin, de dioxyde de silicium et d'autres matériaux utilisés dans l'industrie des semi-conducteurs. Le système fonctionne en gravant la conception ou le motif désiré sur un matériau de substrat, souvent par le biais du processus d'exposition à la lumière. TEL MARK II utilise un système d'exposition aux photons à deux faisceaux, qui éclaire la surface d'un matériau substrat avec deux faisceaux lumineux. Au fur et à mesure que la lumière traverse un masque, elle forme le motif initial sur le matériau du substrat. Les faisceaux lumineux sont destinés à un étage de masque de contact dépendant de la fréquence, et leur recouvrement crée le motif désiré sur le substrat. En utilisant TOKYO ELECTRON MARK II, le matériau du substrat peut être exposé à la lumière à une intensité et une focalisation appropriées, assurant un revêtement uniforme d'un matériau photorésiste ainsi qu'une profondeur de gravure appropriée. Cette résine photosensible est utilisée pour protéger le matériau du substrat d'une gravure lors des étapes ultérieures du procédé. Lors de la gravure, le matériau photorésist agit comme absorbeur de lumière, permettant de contrôler avec précision la vitesse de gravure. MARK II comprend également un révélateur de photorésist, qui utilise un solvant pour éliminer le matériau photorésist exposé sur le substrat. Cela aide en outre à contrôler la vitesse de gravure en aidant à s'assurer que la vitesse de gravure désirée est maintenue sans sous-cotation ou sur-gravure de la conception. Dans l'ensemble, TEL/TOKYO ELECTRON MARK II fournit un processus fiable et efficace pour créer la dernière génération d'IC et d'autres produits dans l'industrie des semi-conducteurs. Ses systèmes d'exposition aux photons à deux faisceaux et de développement de photorésistances garantissent un résultat précis et précis, contribuant à la production de produits de haute qualité et fiables.