Occasion TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #293756479 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON MARK II Photoresist Equipment est un système de pointe offrant des performances de pointe en photolithographie. La photolithographie est un outil utilisé dans le processus de fabrication de semi-conducteurs et d'autres dispositifs électroniques pour créer des caractéristiques et des motifs dans un substrat. TEL MARK II Photoresist Unit est conçu pour être utilisé dans des applications de lithographie ultra-petites et de haute précision. La machine puissante et compacte offre des capacités de revêtement et d'imagerie photorésistantes rapides et précises. L'outil est équipé d'un distributeur de liquide de haute précision, d'un bras robot programmable et d'un outil d'imagerie permettant un contrôle précis des paramètres d'exposition et d'intervalle. Le distributeur de liquide de haute précision du modèle est conçu pour déposer une couche uniforme de la résine photosensible sur le substrat. Le bras du robot positionne alors précisément le matériau pour l'exposition à la lumière, et l'équipement d'imagerie assure un contrôle précis de l'intensité, de la durée et de l'angle incident de l'exposition. Le système comprend une unité d'exposition à trois étages, composée d'une source lumineuse, d'une machine à ceinture et d'un masque photo. La source lumineuse se compose d'une variété de lampes à arc au xénon, de diodes laser UV et de sources DXR, fournissant une gamme d'intensités d'exposition et de longueurs d'impulsions. L'outil de courroie est équipé de diverses fonctionnalités, telles qu'une étape de traduction X-Y, un microscope zoomique focalisé avec une gamme d'extensions, et une commande de focalisation et de zoom motorisé pas à pas. Le masque photo est utilisé pour transférer précisément des motifs d'image vers le substrat. L'actif comprend également un robot de distribution de liquide intégré, un robot de traitement chimique et un moniteur en temps réel. Le robot distributeur de liquide place un revêtement poreux uniforme de résine photosensible sur le substrat, et le robot de traitement chimique contrôle l'application, la cuisson, le traitement chimique et la post-cuisson pour la préparation du substrat en vue de l'exposition. Le moniteur en temps réel aide l'opérateur à surveiller les processus d'injection et de cuisson, à exposer le substrat à la source lumineuse et à contrôler les paramètres de cuisson post-exposition. En outre, le modèle est équipé d'une gamme de fonctions de métrologie pour assurer la précision et l'uniformité dans l'ensemble. Ces fonctions comprennent l'alignement automatisé du micromètre, l'observation de la profondeur focale et la mesure de la lumière pendant la photolithographie. Dans l'ensemble, TOKYO ELECTRON MARK II Photoresist Equipment offre une précision, une précision et une répétabilité inégalées dans la création de caractéristiques et de motifs dans un substrat. Avec ses fonctionnalités et capacités innovantes, le système peut être utilisé pour créer pratiquement n'importe quelle taille de fonctionnalités et complexité imaginable.