Occasion TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #9128576 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON MARK II est un équipement de photorésistance qui utilise une combinaison de lithographie de lumière visible et de photorésist positif pour créer des microstructures dans un large éventail de matériaux. Le système comprend un scanner, une unité d'alignement optique et un module d'exposition monobloc. L'optique de la machine d'alignement optique peut tourner librement autour de l'objet, ce qui permet d'écrire des motifs complexes avec une gamme d'angles et de temps d'exposition différents. Le scanner optique déplace l'objet à l'intérieur d'une fente dans le scanner, permettant une position contrôlée par rapport à l'outil d'alignement optique. Le profil de faisceau du laser est réglable, ce qui permet un réglage facile de la puissance laser, de la focalisation et de la direction. Le module d'exposition se compose d'une lampe UV et d'une fenêtre à quartz, qui est poreuse et permet le passage du rayonnement UV. La lampe UV produit un rayonnement très précis, qui est utilisé pour exposer avec précision le matériau photorésist pour créer les microstructures souhaitées. La fenêtre à quartz aide à réduire l'effet des facteurs environnementaux sur le processus d'exposition. L'actif utilise une ligne dédiée de photorésistants pour la préparation de microstructures. Les photorésistes peuvent être appliqués sur une gamme de substrats, y compris le verre, le silicium et d'autres matériaux. Cela les rend idéales pour un large éventail d'applications. Le modèle TEL MARK II est utilisé dans diverses industries pour créer des microstructures complexes et précises. Il est utilisé pour créer des éléments tels que des électrodes, des filtres, des micropuces, des cartes de circuit et d'autres composants. Il est également utilisé pour créer des prothèses et d'autres dispositifs médicaux. En exposant un matériau photosensible à une source lumineuse très précise, l'équipement permet de créer des structures complexes. Dans l'ensemble, TOKYO ELECTRON MARK II photoresist system est un outil avancé utilisé pour créer des microstructures précises. Il se compose d'un scanner optique, d'une unité d'alignement et d'un module d'exposition. La machine est utilisée pour créer des éléments tels que des électrodes, des filtres, des micropuces, des cartes de circuit et des prothèses. Il est essentiel à de nombreuses industries pour sa capacité à produire des microstructures de haute qualité.