Occasion TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #9144969 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON MARK II est un équipement de photorésistance conçu pour le développement et le traitement des semi-conducteurs. Ce système est une solution complète, permettant la création de processus lithographiques utilisant la suppression. Il utilise un générateur de motifs nano-échelle ainsi qu'un servomoteur linéaire intégré, offrant des tâches d'impression et d'alignement très précises et reproductibles. TEL MARK II garantit une efficacité et une précision optimales lors de la construction des dispositifs semi-conducteurs. Les principaux processus de l'unité sont l'ébauche, la cuisson post-exposition (PEB) et le décapage. Lors du brassage, une résine est distribuée sur un substrat et exposée à la lumière. La résistance adoucit et modifie sa texture, permettant un alignement correct du masque et du substrat. Ensuite, le cycle PEB est utilisé pour durcir la résistance, augmentant la précision du motif créé. Enfin, la résine est dépouillée du substrat, et le motif est solidifié. Tout ce processus est répété pour chaque couche du dispositif afin de créer une conception complète et précise. La machine contient divers composants, tels que la robotique, un contrôleur et un poste de chargement/déchargement. Il dispose également d'une chambre et d'un outil de vide pour la cuisson efficace et l'exposition de la résistance, et d'un outil d'alignement de masque pour le placement précis des masques. TOKYO ELECTRON MARK II supporte également une large gamme de substrats, de structures 1-D à 3-D, y compris Si, GaAs, ZnSe, et bien d'autres. En plus de sa précision et de sa répétabilité inégalées, MARK II offre une flexibilité exceptionnelle. Il dispose d'un modèle intégré de connexion interne en plaquette, permettant de connecter et déconnecter sans effort les substrats de l'équipement. Cela permet aux utilisateurs de réimprimer les modèles avec plus de facilité, de vitesse et de précision. Dans l'ensemble, TEL/TOKYO ELECTRON MARK II est un système photorésist incroyablement puissant et fiable. En utilisant la précision nano-échelle et l'asservissement linéaire intégré, l'unité fournit des processus de lithographie exceptionnels pour la construction de semi-conducteurs. De plus, la conception flexible et le support d'une pléthore de substrats nous permettent de créer une large gamme d'appareils. TEL MARK II est un excellent choix pour le développement et le traitement de semi-conducteurs.