Occasion TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #9226207 à vendre en France
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ID: 9226207
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1989
Developer, 6"
1989 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK II est un équipement de photorésistance conçu pour le développement de composants avancés de circuits électroniques. Le système utilise un nouveau procédé de gravure de couches minces de diélectrique et de métaux à l'aide d'un faisceau laser spécial. A l'aide de ce faisceau laser, une couche mince de résine photosensible est calée sur un substrat, tel que des plaquettes de silicium. Cette photorésist sert de bouclier pour protéger les composants du circuit sous-jacent contre les gravures nocives et les liquides de traitement, tandis que le motif laser permet de localiser le processus de gravure à certains endroits. Cette unité photorésistante est capable d'effectuer une inspection de motifs à haute précision et à grande vitesse et de réaliser des motifs fins, ce qui la rend adaptée à des applications telles que la fabrication de semi-conducteurs, la fabrication de cartes imprimées (PCB) et la fabrication de dispositifs MEMS (micro-systèmes électromécaniques). En outre, TEL MARK II a une fonction de mode batch qui permet de créer plusieurs substrats dans un processus, et une fonction de motif plein champ qui peut facilement changer la taille du motif d'une puce étrangère. TOKYO ELECTRON MARK II dispose d'une machine améliorée, de haute précision et d'alignement à grande vitesse, qui peut détecter l'orientation et la taille d'un substrat de surface de fixation avec précision et rapidité. Cet outil dispose également d'un atout d'intégration d'autofocus et de microscope, qui permet une inspection plus précise des motifs. En outre, le modèle fournit un équipement intégré de remplissage automatique de lentille qui peut remplir n'importe quelle zone avec un matériau donné rapidement. Cela élimine les hypothèses des processus de dépôt, car les matériaux nécessaires au remplissage peuvent être programmés à l'avance. Le système spécial de déplacement de miroir MARK II permet au faisceau du laser d'entrer précisément dans la zone souhaitée. Enfin, l'unité TEL/TOKYO ELECTRON MARK II est bien adaptée au prototypage, car elle est construite avec un transfert automatique de plaquettes et une fonction d'autosurveillance efficace. Cela permet aux fabricants de concevoir et d'affiner rapidement les composants du circuit sans avoir à transférer manuellement le matériau d'un processus à l'autre. Cette machine offre également des jeux et des tolérances de bord améliorés, améliorant encore ses capacités de prototypage. Dans l'ensemble, l'outil TEL MARK II est un atout photorésistant avancé qui offre une inspection des motifs à haute précision et à grande vitesse, une formation de motifs fins et des systèmes intégrés de remplissage automatique et de déplacement de miroir. Ce modèle est adapté à un large éventail d'applications, telles que la fabrication de semiconducteurs et de cartes de circuits imprimés, ainsi que le prototypage.
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