Occasion TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #9238268 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON MARK II est un système de photorésistance très avancé basé sur le traitement de résines qui permet aux utilisateurs de préciser des images de haute précision sur divers substrats et composants électroniques. En particulier, l'unité est apte à être utilisée dans la fabrication de dispositifs et composants semi-conducteurs et microélectroniques avancés. La machine photorésist est une plate-forme intégrée qui combine des éléments de traitement spécifiques, y compris l'unité de traitement photorésist pré-exposition, l'outil de tranchée profonde, ainsi que des caractéristiques avancées de sectionalisation de la résistance et de distribution automatique. L'actif est conçu pour traiter les substrats à couches minces, tels que les semi-conducteurs, à une vitesse ultra-élevée et avec un niveau de précision extrême. En outre, le modèle est capable de supporter un large éventail de techniques de lithographie, y compris la lithographie par étapes (ou « step-and-repeat »), dans laquelle des couches de motifs extrêmement précises sont gravées sur le substrat. L'équipement photorésist est équipé d'un système d'imagerie optique avancé, qui permet aux utilisateurs de former des images avec précision en utilisant des lasers ultraviolets. L'unité est également capable de réaliser divers procédés de prétraitement de haute précision, y compris le spin-coating, le spray-coating et le développement de motifs prédéfinis. En outre, la machine peut être utilisée pour exécuter des processus profonds de tranchées en silicium, ce qui permet aux utilisateurs de créer des tranchées ultra-peu profondes, avec un contrôle d'intervalle précis. TEL MARK II offre un outil de surveillance statistique des processus grâce auquel les utilisateurs peuvent analyser en toute sécurité les paramètres du processus et créer des images de haute précision avec des résultats reproductibles et fiables. De plus, le modèle présente un profil à faible rapport longueur d'onde, ce qui assure une transmission lumineuse totale dans le processus d'impression. L'équipement de photorésistance TOKYO ELECTRON MARK II combine des éléments d'optique et de traitement très avancés pour permettre aux utilisateurs de former avec précision des motifs de résolution fine sur des substrats à couches minces. Le système est très fiable et précis, avec une large gamme de lithographies et résiste aux processus de pré-traitement, combiné avec une unité d'imagerie de haute précision qui assure des résultats reproductibles et fiables. De plus, son profil à faible rapport longueur d'onde assure une transmission lumineuse totale dans le processus d'impression.