Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #149604 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Mark V est un équipement spécialisé de traitement de la photorésistance utilisé pour la lithographie dans la fabrication électronique. Ce système est capable de produire des motifs fins de petits composants, jusqu'à 0,35 mm de taille. TEL Mark V est une unité d'alignement optique qui utilise la lumière pour exposer un photomasque sur le substrat, permettant la génération de motifs fins. Un miroir offre une exposition du côté arrière, et une fente réglable fournit une fine focalisation. Une lentille de projection de haute précision projette l'image du photomasque sur le substrat pour générer le motif. De plus, une caméra CCD haut de gamme est utilisée pour l'alignement fin et la correction de l'écart d'exposition. La photorésistance TOKYO ELECTRON MARK-V est conçue pour être très modulaire, permettant un assemblage personnalisé des pièces pour répondre à toute exigence spécifique. Cette flexibilité permet de définir divers paramètres d'exposition, y compris les niveaux de résolution, de focalisation et d'exposition à la lumière. Il a de nombreuses fonctionnalités pour aider à assurer l'exactitude de la lithographie. La fonction d'auto-alignement, associée à l'objectif de projection de haute précision, améliore la résolution et la précision d'exposition. Il peut également être utilisé pour traiter rapidement de grands substrats. En outre, TEL/TOKYO ELECTRON MARK-V est conçu avec une interface utilisateur flexible. L'utilisation d'une interface utilisateur graphique conviviale (interface graphique) permet un contrôle indépendant et une surveillance des défauts de chaque module. Par ailleurs, la présence d'une mémoire interne permet des expositions longues permettant un temps de traitement suffisant pour des couches de résistance plus épaisses. TOKYO ELECTRON Mark V est un outil de photorésistance fiable et précis pour la création de sous-microns. Il offre une résolution, une précision, une flexibilité et des performances supérieures adaptées aux procédés de lithographie et de fabrication avancés. Cet actif photorésist économique est idéal pour la production moderne de semi-conducteurs et les applications de recherche avancées.