Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #293646085 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON Mark V
ID: 293646085
(2) Coater / (2) Developer systems.
L'équipement de photorésistance TEL/TOKYO ELECTRON Mark V est un système de fabrication de plaquettes haute performance conçu pour développer et traiter rapidement et précisément des motifs de photorésistance sur des plaquettes semi-conductrices. TEL Mark V utilise des technologies avancées de laser et d'imagerie pour une lecture rapide, précise et cohérente des photomasques. Il permet aux utilisateurs de créer, stocker et reproduire des motifs ou des dessins sur une plaquette revêtue de photorésist avec une répétabilité absolue et des déchets minimes. La lithographie laser à balayage de la machine est capable d'utiliser des longueurs d'onde laser multiples et des positions de fentes variables, permettant des conceptions de photomasques complexes à rejouer avec une très grande précision. De plus, l'outil peut également être configuré pour utiliser les modes step-and-repeat et repeat-flight afin d'améliorer encore le débit des plaquettes. TOKYO ELECTRON MARK-V actif est également équipé d'un algorithme avancé de partage d'image, qui permet de diviser un seul photomasque sur de nombreuses tranches de wafer. Cette fonctionnalité permet aux fabricants de maximiser l'utilisation des plaquettes et de réduire les délais d'exécution. Enfin, TEL/TOKYO ELECTRON MARK-V photoresist model est également équipé d'un puissant équipement de vision pour l'inspection automatique des motifs finis de photorésist. Ce système fournit une rétroaction en temps réel sur l'état et la géométrie de chaque plaquette afin d'assurer la vitesse et la précision tout au long du processus. Globalement, l'unité photorésist MARK-V fournit aux utilisateurs une plate-forme puissante, fiable et rentable pour la fabrication des plaquettes. Ses capacités avancées de laser et d'imagerie permettent une lecture, une division et une inspection précises et répétables des photomasques, ce qui permet d'obtenir des systèmes fiables et économiques pour la formation de motifs complexes sur des plaquettes à semi-conducteurs.
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