Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #293759024 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Mark V est un équipement de photorésistance qui est utilisé dans les opérations de production de semi-conducteurs pour produire des motifs sur des plaquettes pendant le processus de photolithographie. Le système photorésist TEL Mark V fait partie de la gamme de produits disponibles auprès de TEL et est utilisé principalement pour la lithographie sans masque et les opérations de développement. TOKYO ELECTRON MARK-V est équipé d'une gamme de composants et de caractéristiques conçus pour faciliter une exposition plus rapide et plus précise de la résine photosensible pour créer des motifs très précis sur les plaquettes. La machine comprend un outil d'imagerie optique haute résolution et haute précision, un étage de vide pour maintenir la plaquette pendant l'imagerie, et une unité de commande compacte et facile à utiliser. La section d'imagerie optique de Mark V est conçue pour des performances sonores extrêmement stables et faibles et est capable de projeter des motifs sur la résistance de manière cohérente et précise. L'optique de projection utilise un actif avancé de balayage laser qui peut atteindre une résolution de 30nm. L'étage de vide de la plaquette permet un contrôle très précis de la plaquette lors de l'imagerie, afin de s'assurer que le motif est bien aligné et parfaitement centré. L'unité de commande du modèle TOKYO ELECTRON Mark V est conçue pour être conviviale, ce qui permet de définir facilement les paramètres d'exposition et d'autres paramètres de fonctionnement avec un minimum d'effort. Le contrôleur comprend également plusieurs fonctionnalités qui permettent un contrôle plus complet, comme la simulation d'exposition, l'édition de motifs et l'étalonnage d'alignement. Cela permet d'affiner le processus d'imagerie et d'assurer une précision parfaite. L'équipement de photorésistance MARK-V est un outil fiable et polyvalent pour les fabricants de semi-conducteurs, en particulier pour ceux qui exigent la plus grande précision pour leurs opérations de photolithographie. Grâce à ses capacités d'imagerie optique de haute précision et ses fonctions de contrôle avancées, le système peut produire des motifs de haute qualité et haute résolution rapidement et de façon cohérente.