Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #293759031 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Mark V est un équipement de photorésistance très avancé conçu pour le traitement précis des dispositifs semi-conducteurs. Ce système est capable de réaliser des motifs à haute résolution de formes et de tailles diverses sur des substrats. C'est une technologie très avancée qui utilise des systèmes optiques avancés, des étages automatisés de haute précision et une robotique précise pour obtenir un alignement et un enregistrement précis. L'unité est très précise, avec une répétabilité positionnelle de 0,5 microns, une précision de rodage de 0,5 microns et une précision d'inclinaison de 0,5 microns. Cela garantit que les modèles et les formes exactes peuvent être atteints même avec plusieurs générations. De plus, la machine peut manipuler des substrats jusqu'à 600 mm de diamètre. L'outil est équipé d'un outil de mesure optique de précision de haute précision entièrement automatisé, permettant d'effectuer des mesures précises avec rapidité et précision. Ce modèle permet également de corriger et d'optimiser automatiquement l'image à partir de valeurs préalablement mesurées. L'équipement est programmé pour effectuer un large éventail de tâches, y compris le masquage, l'exposition et l'enlèvement. Le masquage implique l'utilisation d'un matériau photorésistant recouvrant le substrat, qui est spécifiquement destiné à empêcher la lumière d'atteindre le substrat. L'exposition est un processus dans lequel le masque est exposé à une quantité spécifique de lumière pour activer le matériau chimiquement sensible, tandis que l'élimination est le processus d'enlèvement du masque pour obtenir le motif désiré. TEL Mark V est équipé d'un système de découpage laser pour le découpage laser des caractéristiques à motifs. Cela permet un parage et une gravure de haute précision des substrats, éliminant les caractéristiques indésirables du motif et augmentant la précision du parage. Toutes ces capacités font de TOKYO ELECTRON MARK-V une unité de photorésistance extrêmement avancée. Il assure des capacités de fixation et de répétabilité très précises, ce qui le rend idéal pour diverses applications industrielles. Il est capable de réaliser des motifs haute résolution de formes et de tailles diverses sur des substrats, avec un positionnement et une répétabilité précis, et convient à la réalisation de semi-conducteurs et autres dispositifs de précision.