Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9054827 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Mark V Photoresist Equipment est un système perfectionné de revêtement automatisé et de développement spécialement conçu pour le rechargement lithographique et le traitement photorésist. La photorésist est un matériau sensible à la lumière utilisé en lithographie pour créer des motifs microscopiques sur les surfaces. L'unité est équipée d'un contrôle de processus intelligent avancé (IPC) avec une précision accrue et un contrôle de température complet pour la plus grande précision. La machine est équipée d'une chambre d'environnement et utilise une technologie brevetée d'auto-ajustement du débit qui enrobe efficacement et avec précision les substrats avec un dépôt optimal. Cela garantit un revêtement uniforme et des performances constantes sur une large gamme de températures. L'outil est également équipé d'une technologie d'imagerie avancée qui fournit des positions précises contrôlées par recette et des plaquettes uniformes. De plus, un mécanisme de double positionnement de revêtement de grande capacité facilite le traitement du substrat tandis qu'un bras asservi entraíne l'uniformité du revêtement. TEL Mark V automatise l'ensemble du processus photorésist et intègre des fonctionnalités telles qu'un modèle de chauffage dynamique et une commande thermique d'ondulation qui peuvent être ajustées pour diverses applications. Son équipement de post-dépôt à grande vitesse augmente le débit de production, permettant un plus grand nombre de finitions avec moins de contraintes sur les substrats. En outre, le système dispose d'une unité de balayage laser avancée avec la capacité de capturer avec précision les motifs de lithographie et de contrôler les éléments mobiles selon le motif. La photorésist TOKYO ELECTRON MARK-V a un cycle de nettoyage haute performance et fournit une couche sûre et efficace de photorésist à une variété de substrats. Ses fonctions intégrées de contrôle des processus dirigent et contrôlent les opérations, ajustant et optimisant constamment les paramètres pour garantir les résultats de la plus haute qualité. Cela garantit des performances plus cohérentes, de meilleurs rendements et, en fin de compte, une plus grande efficacité globale. L'outil MARK-V est conçu pour maximiser le débit de processus avec une perte minimale de substrat et peut être intégré à l'équipement de photolithographie existant pour fournir le plus haut niveau de précision.