Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9130774 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Mark V L'équipement photorésist est une solution de photolithographie avancée conçue pour fournir des microstructures précises sur de grandes surfaces de manière rapide et efficace. Le système combine la lithographie directe par faisceau laser (LBDL) et les techniques classiques de photolithographie, ainsi que la technologie de pointe pour la formation de motifs réussie au niveau du nanomètre. TEL Mark V est capable de créer des structures tridimensionnelles difficiles à développer par des procédés de photolithographie classiques. La machine TOKYO ELECTRON MARK-V utilise le KRS-U1100DL, un dispositif de génération laser qui a une vitesse d'écriture maximale de 5m/s et une précision de répétition maximale de 3nm. Ce dispositif fournit un faisceau laser à un dispositif de formation de motifs qui, à son tour, stocke les informations de motifs dans sa mémoire interne et les rejoue sur le substrat. Le faisceau laser appliqué sur le substrat est focalisé par un outil au microscope dans diverses microstructures. De plus, une bibliothèque intégrée permet le développement de diverses micropatterns et structures, y compris des photorésistances, des motifs et des tableaux colorés superposés, l'identification de la circonférence des plaquettes et le contact in/out. Avec KRS-U1100DL, l'actif TOKYO ELECTRON Mark V a une taille de champ minimale de 50nm et fonctionne en appliquant un laser à haute fréquence et à courte durée d'exposition sur un substrat recouvert de résines. Ce laser a la capacité de graver le matériau à un niveau beaucoup plus profond que d'autres systèmes de photolithographie, permettant le développement de structures tridimensionnelles bien au-delà des capacités des machines de lithographie classiques. Le modèle dispose également d'un équipement avancé de traitement de résines qui permet la formation d'un film de résines extrêmement uniforme et mince sur l'ensemble du substrat. Cela garantit une formation précise et répétable des motifs et fournit une finition de haute qualité à chaque microstructure. Globalement, TEL MARK-V Photoresist développé par TEL est une solution de photolithographie fiable et complète. Il est doté d'une technologie innovante de formation de motifs qui permet la production réussie de structures tridimensionnelles au niveau du nanomètre et d'un système intégré de traitement de résistance pour des résultats de haute qualité. Cette unité est idéale pour ceux qui nécessitent la formation de motifs de précision sur leurs substrats pour une large gamme d'applications.