Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9226369 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Mark V Photoresist Equipment est une plate-forme d'intégration ultramoderne conçue pour faciliter l'exposition de la production de matériaux photosensibles à haut volume pour la fabrication de dispositifs. Il s'agit de la combinaison de la technologie de traitement de substrat en ligne propriétaire TEL et de la technologie de capture optique avancée pour la production à haut volume. Ce système est ainsi connu pour sa superbe homogénéité et son excellente commande de profil. TEL Mark V Photoresist Unit intègre TOKYO ELECTRON technologie avancée de rayonnement de masque à vide pour assurer une haute précision d'alignement entre le masque et la photorésist. Avec des opérations d'exposition améliorées, cela permet un alignement très précis entre la résine photosensible et le motif du masque. TOKYO ELECTRON MARK-V Photoresist Machine est capable d'exposition jusqu'à une résolution de 0,25 microns, avec des temps d'exposition aussi bas que 8ms, permettant la fabrication de dispositifs à pas fin. Les systèmes disposent également d'un moteur linéaire embarqué outil de commande optique. Cet actif utilise un actionneur à faible distorsion pour maintenir un alignement précis entre le masque, la plaquette et l'optique de projection. Ceci assure un transfert précis du motif du masque vers la résine photosensible. De plus, TEL MARK-V Photoresist Model comprend un équipement d'alignement et d'exposition entièrement automatisé qui permet un entretien et une configuration rapides et simples. Ce système prévoit des niveaux d'uniformité croisés élevés, permettant des résultats très reproductibles et cohérents. En outre, l'unité utilise également les technologies Dynamic Pattern Tuning (DPT) et Dynamic Focus Control (DFC) pour garantir la qualité la plus haute résolution à chaque exposition. TOKYO ELECTRON Mark V Photoresist Machine permet également l'activation à basse température et le nettoyage humide de la photorésist, ainsi que le risque minimal de dommages au motif résultant. Le développement de cet outil a permis de réduire les niveaux de contamination, d'améliorer le débit, d'améliorer l'uniformité des produits et d'accroître la satisfaction des utilisateurs. Dans l'ensemble, MARK-V Photoresist Asset est conçu pour fournir un niveau de performance inégalé pour la fabrication cohérente et précise de dispositifs de hauteur fine. Il s'agit de la solution idéale pour la production en grand volume de matériaux sensibles. En outre, ce modèle permet un entretien et une installation faciles, ainsi qu'une sécurité et un contrôle améliorés du processus de fabrication du dispositif.