Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9226372 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON Mark V
ID: 9226372
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1990
Track system, 6" 1990 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Mark V est un équipement de photorésistance conçu pour représenter de manière optimale des couches minces sur de grandes surfaces de plaquettes avec une résolution allant jusqu'à 100nm. Il utilise un objectif corrigé d'aberration chromatique pour obtenir une très haute résolution et une forte dose d'exposition avec un temps d'exposition court. TEL Mark V est alimenté par une source laser pulsée qui utilise un laser excimère comme source de lumière. Cette unité est capable de délivrer une exposition à haute dose avec une résolution temporelle de 0,23 millisecondes. La source laser est techniquement stable avec une excellente uniformité de la dose sur l'ensemble de la plaquette. La machine TOKYO ELECTRON MARK-V est équipée de mesures « Over-the-air » (OTA) de dose d'exposition et d'uniformité de profondeur. Ceci permet un contrôle de haute précision de la qualité des images photorésistantes. L'outil peut aider à rationaliser le processus de photolithographie avec son logiciel intuitif et facile à utiliser. Il permet d'accéder à tous les paramètres nécessaires au succès des processus de photolithographie. Il permet également un contrôle efficace des recettes et des paramètres, la prévention des erreurs et le contrôle des processus in situ. L'actif a une excellente stabilité et de faibles exigences d'entretien, permettant d'augmenter la productivité. Il permet l'enregistrement de précision, l'alignement de haute précision et la rétroaction d'alignement. Il supporte également les étages et charge jusqu'à 200mm wafers dans une position unique OTA. Le modèle de photorésist MARK-V est un outil fiable pour l'ingénierie des procédés, et son utilisation contribue à réduire les coûts de fabrication en permettant la performance de plusieurs couches de photorésistance sur de plus grandes surfaces du substrat. Cet équipement est adapté à la production de dispositifs critiques de précision et de petits motifs.
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