Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9384735 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Mark V Photoresist Equipment est un système de photorésistance spin-on avancé avec des caractéristiques conçues pour améliorer le processus de revêtement de photorésist pour l'industrie des semi-conducteurs. Il dispose d'un revêtement à double étage pour obtenir un dépôt uniforme de matériaux photorésistants sur une surface de plaquette. L'unité peut traiter différents matériaux de résistance, y compris des résistances à couches minces telles que l'hydrogène silsesquioxane (HSQ) et les résines à base d'alcool benzylique (BAR) et la vitesse de rotation de 3000 tr/min jusqu'à 16 000 tr/min. La machine dispose également de plusieurs options pour améliorer le contrôle des processus. Il est équipé d'un moniteur de niveau électronique pour assurer un revêtement de résistance uniforme sur la surface de la plaquette en tout temps. Il dispose également d'un mécanisme d'inclinaison de plaquette utilisé pour contrôler l'épaisseur de résistance sur le bord de la plaquette. Ce mécanisme d'inclinaison permet un contrôle précis de l'exclusion de la résistance sur la plaquette à appliquer. TEL Mark V Photoresist Tool offre plusieurs fonctionnalités supplémentaires pour un traitement précis des plaquettes. Il est capable d'enlever les billes de bord avec sa buse intégrée d'enlever les billes de bord, ce qui améliore la qualité de la résine photosensible dans le photomasque final. De plus, sa buse de spin-off est conçue pour une dispersion uniforme du spray photorésist autour de la plaquette. En outre, TOKYO ELECTRON MARK-V Photoresist Asset dispose d'un lavage après développement qui utilise une fonction de pulvérisation-rinçage haute pression à l'intérieur de la chambre de pulvérisation. Cela garantit que les photorésistes obtenus à partir du modèle sont propres et exempts de tout contaminant. Le nettoyage post-développement comprend également une buse de dérivation pour s'assurer que tout liquide restant est complètement éliminé. Dans l'ensemble, les caractéristiques de Mark V Photoresist Equipment aident à réduire considérablement les coûts associés au dépôt de couches minces de photorésist en offrant une uniformité supérieure et un meilleur contrôle des procédés. Le système supporte également un certain nombre de matériaux résistants et fournit une excellente clarté optique et physique du photomasque fini. Cela garantit que le motif lithographique obtenu est de qualité et de précision supérieures.