Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9384737 à vendre en France

L'équipement de photorésistance TEL/TOKYO ELECTRON Mark V est un système de photolithographie avancé utilisé principalement dans la fabrication microélectronique. Cette unité est conçue pour réaliser des motifs sur des plaquettes semi-conductrices grâce aux technologies de dépôt et de gravure. La machine TEL Mark V comprend une gamme complète de fonctionnalités conçues pour améliorer les performances de traitement des composants de microélectronique. L'outil se compose de trois composantes principales : une unité de traitement des substrats (SPU), une composante de résolution et d'exposition (REC) et l'actif de contrôle primaire (SCP). Le SPU est conçu pour traiter une grande variété de matériaux, y compris des photorésists, des photomasques et d'autres matériaux à couches minces. Ce composant est conçu pour s'assurer que les étapes photolithographiques sont effectuées avec un contrôle précis de tous les aspects du processus, y compris la température, la pression et l'humidité. Le composant REC facilite les motifs photolithographiques en ajustant la résolution du procédé. Il ajuste également l'exposition manifestant les motifs sur le substrat. Le composant PCS fonctionne comme le modèle de contrôle automatisé primaire pour tous les équipements de TOKYO ELECTRON MARK-V. Il assure une cohérence uniforme entre des centaines ou des milliers de substrats en surveillant les performances de chaque composant. Le système MARK-V contient également plusieurs outils spécialisés pour surveiller et analyser les données recueillies au cours du processus. Cela comprend le contrôle de l'étalonnage, la cartographie du substrat, la cartographie de la puissance de crête et l'imagerie paramétrique. Cette collecte de données contribue à maintenir la qualité et les performances pendant le processus de fabrication. En fin de compte, TEL/TOKYO ELECTRON MARK-V fournit une unité conçue pour la précision et la fiabilité lorsque vous essayez de créer des composants microélectroniques. Il mesure la précision des caractéristiques jusqu'aux distances nanométriques et enregistre avec précision les temps d'exposition pour une performance maximale. La combinaison des sous-systèmes avancés garantit la répétabilité et la fiabilité du processus de fabrication microélectronique.