Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Mark Vz 10000WC-N #9148318 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Mark Vz 10000WC-N est un équipement de photorésistance utilisé pour des applications photosensibles en lithographie. Il utilise un procédé de lithographie avancée, dans lequel la lumière est utilisée pour transférer un motif d'un photomasque sur un substrat. Le système permet des images de haute qualité, avec un contrôle précis des emplacements et des tailles des motifs. L'unité est hautement intégrée, fournissant une solution totale pour résister à des applications telles que le balisage, le nettoyage, la gravure et l'inspection. Il est composé d'un illuminateur qui sert de source lumineuse pour les masques, d'un scanner à faisceau d'électrons pour exposer les masques, et d'un graveur à faisceau d'ions qui aide à transférer le motif sur le substrat. L'illuminateur a un contrôle de température de +/- 1 ° C qui assure un éclairage uniforme et cohérent. Le scanner à faisceau d'électrons est capable de scanner avec précision la plage de 1 à 5 microns et a une vitesse de fonctionnement maximale de 500x grossissement. Il utilise une machine d'accélération à 3 étages, avec des capacités d'accélération/décélération, de focalisation et d'obturation. Le graveur de faisceau d'ions est capable de graver avec précision des échantillons avec une résolution de 2 nanomètres. L'outil comprend également un certain nombre de systèmes de pré- et post-traitement pour répondre aux besoins spécifiques des clients. Il comprend la capture d'image pour la surveillance et l'analyse des processus, l'étalonnage auto-alignement, l'analyse des données acquises, la lecture optique des motifs et l'inspection des masques. L'actif utilise la solution TEL ScrubRX pour nettoyer les substrats et un sélecteur de cuisson pour accueillir différents types de résistances. En outre, il utilise une gamme de filtres électroniques spécifiques au scanner pour contrôler la qualité de l'image, comme un filtre multi-processus (MPF), qui ajuste les paramètres de l'image, et ChromaFilters pour la séparation des couleurs. Dans l'ensemble, TEL Mark Vz 10000WC-N est un modèle photorésist avancé et intégré qui permet aux utilisateurs d'obtenir des modèles de haute résolution de qualité avec un contrôle précis des emplacements et des tailles des motifs. Il est adapté à toute une gamme d'applications, allant de la mesure de la rugosité de surface à l'intégration du dispositif semi-conducteur le plus avancé.