Occasion TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #149633 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz
ID: 149633
Taille de la plaquette: 6"
(2) Coater / (2) developer track systems, 6".
TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz Photoresist Equipment est un système de lithographie de précision haut de gamme pour la production industrielle de motifs nanométriques. Cette unité de lithographie de pointe permet la production de motifs géométriques extrêmement fins et détaillés à des longueurs d'onde fréquemment utilisées (par exemple 633nm, 365nm et 248nm), et fournit des fonctions de traitement chimique et de métrologie haut de gamme. TEL MARK-VZ Photoresist Machine offre plusieurs modes de fonctionnement, y compris la lithographie à projection optique (OPL) et la lithographie à faisceau électronique (EBL). Dans OPL, la lumière est projetée sur une lentille de projection, et la lentille amplifie les motifs fins sur le substrat - la cible ultime de l'opération. EBL est le procédé utilisé lorsque des structures extrêmement fines nécessitent une précision extrême. Ce mode de lithographie utilise un faisceau d'électrons fortement focalisé pour écrire des structures fines sur le substrat. TOKYO ELECTRON MARK V-Z Photoresist Tool propose également divers procédés chimiques, tels que le revêtement primaire et le développement. La première étape de revêtement aide à protéger le substrat et crée une surface uniforme, tandis que le développement aide à adoucir et à dissoudre la couche de résine photosensible, révélant le motif sous-jacent. De plus, TOKYO ELECTRON MARK-VZ Photoresist Asset fournit des fonctions de métrologie pour garantir la plus haute qualité du produit fini. Il s'agit notamment d'une variété de mesures, telles que la largeur et la hauteur des lignes, l'angle de flanc et l'erreur de recouvrement, qui sont toutes importantes pour garantir une géométrie précise et cohérente des motifs. TEL/TOKYO ELECTRON MARK-VZ Photoresist Model est extrêmement fiable et optimise à la fois le débit et la précision pour tout processus de lithographie. Cet équipement permet la réalisation de structures extrêmement fines, permettant la production de tout type de motifs imaginables, des structures 3D aux dispositifs nanoélectroniques. Ce système est donc un outil inestimable pour les entreprises qui cherchent à fabriquer les structures les plus fines et les plus complexes.
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