Occasion TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #293625671 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz est un équipement de photorésistance utilisé pour les procédés lithographiques. Il est conçu pour traiter et manipuler avec expertise la vaste gamme de matériaux photorésistants utilisés dans le processus photolithographique. Il combine plusieurs technologies pour le rendre capable de produire des résultats de la plus haute qualité. Le système est conçu pour améliorer la résolution et la précision par rapport à d'autres systèmes grâce à son unité optique avancée. La machine est également conçue avec une structure tridimensionnelle haute vitesse et un mécanisme de balayage qui permet une imagerie et un traitement plus rapides. L'optique fournit une source lumineuse lumineuse uniforme qui assure une exposition uniforme de la résine photosensible. L'outil est conçu pour pouvoir traiter une variété de photorésistants, y compris le polyméthylméthacrylate (PMMA), le polyimide (PI), le polyméthylpentène (PMP), le polyvinylphénol (PVP), le polystyrène (PS) et le polyacrylonitrile (PAN). Il est également capable de traiter un large éventail de matériaux de divers substrats, tels que le cuivre, l'aluminium, le fer, l'étain, le verre, le plastique et le papier. TEL MARK-VZ est conçu pour une utilisation avec une grande variété de photomasques, permettant une plus large gamme d'applications de photo-exposition et de balisage. Les photomasques sont spécifiquement conçus pour réduire et limiter les réflexions de surface, fournissant ainsi une meilleure définition et détail. De plus, le modèle peut gérer plusieurs couches de photomasques, ce qui permet des applications plus profondes. L'équipement est conçu avec un système entièrement automatisé, permettant une qualité de sortie fiable, cohérente et répétable. L'unité automatisée est programmée pour répondre aux exigences exactes du processus photolithographique. TOKYO ELECTRON MARK V-Z photorésist est conçu pour fournir le plus haut niveau de précision et de fiabilité pour assurer les meilleurs résultats pour tout processus photolithographique. Avec une optique avancée, des systèmes automatisés et la capacité de traiter un large éventail de matériaux, cet outil est un choix idéal pour tout type d'application de lithographie.