Occasion TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #293821346 à vendre en France

TEL MARK-Vz est un équipement de haute précision conçu pour les procédés avancés de photolithographie des semi-conducteurs. Développé par Tokyo Electron Limited (TEL), le système TEL MARK Vz offre une technologie de pointe et des performances supérieures pour répondre aux exigences exigeantes de l'industrie des semi-conducteurs. L'unité MARK-Vz intègre des caractéristiques et des fonctionnalités de pointe afin de permettre un tissage très précis et reproductible sur les substrats semi-conducteurs. Il est équipé d'une machine d'alignement sophistiquée qui assure la superposition et l'enregistrement précis de plusieurs couches dans le processus de lithographie. Cette capacité d'alignement avancée est cruciale pour atteindre la résolution submicronique et les dimensions critiques strictes requises pour les dispositifs semi-conducteurs de prochaine génération. L'un des composants clés de l'outil MARK Vz est le module d'exposition, qui utilise des sources lumineuses et optiques avancées pour modeler la couche de résine photosensible avec une haute résolution. L'actif supporte une large gamme de longueurs d'onde d'exposition, y compris l'ultraviolet profond (DUV) et l'ultraviolet extrême (EUV), permettant de modéliser les caractéristiques jusqu'à l'échelle du nanomètre. De plus, le module d'exposition est équipé de mécanismes dynamiques de focalisation et de contrôle de la dose pour assurer une exposition uniforme sur toute la surface du substrat. Le modèle TEL MARK-Vz dispose d'un design de mandrin en plaquette à deux étages qui offre une excellente stabilité et planéité pendant le processus d'exposition. Les étages supérieur et inférieur du mandrin de la plaquette peuvent être contrôlés de manière indépendante pour compenser toute non-planéité ou dérive dans le substrat, assurant un brassage uniforme sur l'ensemble de la plaquette. Cette conception innovante permet un débit et un rendement élevés dans des environnements de production à haut volume. En plus de ses capacités d'exposition avancées, l'équipement TEL MARK Vz offre un ensemble complet de fonctions de contrôle et de surveillance des processus pour optimiser les performances de la lithographie. Le système est équipé d'outils automatisés de gestion des recettes qui permettent aux utilisateurs de programmer et d'exécuter facilement des processus lithographiques complexes avec une répétabilité élevée. Les mécanismes de suivi et de rétroaction en temps réel permettent aux utilisateurs d'identifier et de corriger rapidement toute déviation de processus, en garantissant des résultats fiables et cohérents. En outre, l'unité MARK-Vz est conçue avec une architecture modulaire qui permet une intégration facile avec d'autres outils et équipements de processus dans une installation de fabrication de semi-conducteurs. La machine peut être personnalisée avec des modules supplémentaires pour la cuisson post-exposition, le développement et les processus d'inspection, fournissant une solution complète de lithographie pour la fabrication avancée de semi-conducteurs. Globalement, l'outil de photorésistance MARK Vz représente une solution de pointe pour la lithographie semi-conductrice de haute précision. Grâce à sa technologie de pointe, à ses performances supérieures et à ses capacités complètes de contrôle des processus, TEL MARK-Vz permet aux fabricants de semi-conducteurs de répondre aux exigences strictes de la fabrication d'appareils de nouvelle génération avec une précision et une efficacité exceptionnelles.