Occasion TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #293828918 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz est un équipement de photorésistance utilisé dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs pour la lithographie et la gravure de faisceaux d'électrons. Le système comprend une chambre à vide, un obturateur, un pistolet à ions et un microscope optique. La chambre à vide est conçue pour maintenir un environnement à vide élevé. Un obturateur est utilisé pour disperser le faisceau du canon à électrons, qui peut être affiné pour une résolution de 10 nm ou mieux. Un pistolet ionique est également inclus comme unité de nettoyage de chambre. Un microscope optique est utilisé pour représenter l'échantillon et surveiller la taille et la forme de la tache du faisceau. TEL MARK-VZ permet l'écriture directe à haute résolution des caractéristiques submicroniques avec une résolution supérieure à 10 nm. Il fournit une boîte à outils photorésistante complète pour créer des formes de motifs complexes avec plusieurs couches de caractéristiques. Les caractéristiques de balisage peuvent être alignées avec une précision de 1 µm. En utilisant une machine d'alignement multi-canaux, plusieurs motifs peuvent être alignés pour correspondre les uns aux autres avec une grande précision. TOKYO ELECTRON MARK V-Z permet également une lithographie électronique à grande vitesse avec une vitesse de balayage rapide et un temps d'impulsion RF court. L'outil peut être utilisé dans diverses applications, telles que la création de masques optiques, de transistors à couches minces, de dispositifs MEMS et de circuits intégrés. En particulier, il offre une haute résolution et une écriture de motif à grande vitesse pour les appareils MEMS. L'actif est hautement personnalisable et peut être utilisé pour de multiples applications et matériaux. TOKYO ELECTRON MARK Vz est un modèle de photorésist fiable et efficace pour la fabrication d'appareils. Il est conçu pour un débit élevé et une haute résolution. L'équipement offre des fonctionnalités avancées pour créer de façon sûre et précise des caractéristiques complexes à l'échelle micro et nanométrique. Il est hautement personnalisable et adapté à une large gamme d'applications de fabrication d'appareils.