Occasion TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9118822 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

ID: 9118822
Taille de la plaquette: 4"
Style Vintage: 2001
Coater / Developer, 4" 2001 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour la fabrication de dispositifs submicroniques multicouches de pointe. Il se compose d'un aligneur photomasque, d'un spinner, d'un graveur à sec, d'un développeur humide et d'un asher à plasma. Le système est capable de déposer jusqu'à quatre couches multicouches de précurseurs de dispositifs submicroniques avec un niveau de précision extrêmement précis grâce à l'utilisation de son unité d'alignement automatisé et de son procédé de résistance multicouche hautement configurable. TEL MARK-VZ masque aligner est capable de masquer les résistances positives et négatives à des résolutions inférieures à 0,15 μ m, ce qui le rend idéal pour la fabrication de dispositifs submicroniques. Le spinner est également très précis et dispose d'un environnement contrôlé par la température, permettant un contrôle fin de la vitesse d'évaporation et de l'épaisseur de la résine photosensible. Avec l'aide des systèmes ALD/PEALD et DVD, un film de résistance très uniforme et de haute qualité peut être obtenu. L'etcher sec est également un composant essentiel de la machine, permettant le dépôt précis de dopants et d'autres composants sur des substrats avant le photorésistage. Le développeur humide utilise l'outil de traitement chimique humide pour garantir un développement de résistance fiable qui peut obtenir une résistance uniforme au décollage et à l'enlèvement. Enfin, le cendrier plasmatique assure une gravure fine en éliminant les problèmes de sous-gravure ou de surgravure qui peuvent découler de la gravure sèche traditionnelle. TOKYO ELECTRON MARK V-Z offre une fabrication avancée d'appareils et une gamme de personnalisation pour répondre aux exigences spécifiques de ses clients. C'est un actif photorésist fiable et très précis conçu pour les applications les plus exigeantes, avec ses processus de résistance automatisés et hautement configurables et ses systèmes d'alignement. Le modèle offre également des délais d'exécution et de cycle plus rapides ainsi qu'un traitement rentable, permettant aux clients de rendre leurs appareils fiables, rapidement et avec moins de déchets.
Il n'y a pas encore de critiques