Occasion TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9148234 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz
ID: 9148234
Style Vintage: 1997
Coater & developer 3D (E2 nozzle+Back rinse) 5HP 5Col Right Stand alone 1997 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK L'équipement de photorésistance Vz est un système de lithographie de pointe conçu pour produire des images et des motifs très précis sur des plaquettes semi-conductrices. L'unité utilise un produit chimique liquide spécial appelé photorésist, qui permet la réalisation précise d'un motif prédéterminé d'images, typiquement pour la réalisation de circuits intégrés (IC). TEL MARK-VZ dispose d'un bouchon automatisé et informatisé, qui multiplie précisément le temps d'exposition de la résine photosensible. Il comprend également un enrobeur de spin, qui est utilisé pour appliquer uniformément le liquide photorésist sur une plaquette. Le spin coater tourne à une vitesse très rapide, répartissant parfaitement la résine photosensible sur la plaquette. La machine dispose également d'un mandrin de plaquette qui guide la plaquette pendant l'exposition et lui donne une position stable. Ceci garantit que l'image ou le motif désiré est imprimé avec précision sur la plaquette. De plus, TOKYO ELECTRON MARK V-Z dispose d'un centrage semi-automatique et d'un centrage en un clic, ce qui garantit que le motif est toujours aligné avec précision et centré sur la plaquette. Enfin, MARK V-Z possède une fonction auto-level qui garantit que la plaquette à motifs est toujours de niveau et correctement alignée avec le substrat. Cela permet d'augmenter la précision et la précision du processus photolithographique. Dans l'ensemble, TEL/TOKYO ELECTRON MARK-VZ photoresist outil est un actif de lithographie très avancé, informatisé et automatisé conçu pour la production de précision de modèles complexes sur plaquettes. En utilisant des équipements de pointe, tels que le bouchon, la bobine de rotation, le mandrin de plaquette et la fonctionnalité de niveau automatique, il est en mesure de produire avec précision et précision des modèles pour la production d'IC.
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