Occasion TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9148324 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz est un équipement photorésistant de premier plan utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs. Grâce à sa technologie de pointe, il est capable d'imagerie précise, précise et répétable des photomasques avancés. TEL/TOKYO TEL MARK-VZ est un outil d'imagerie haute définition utilisé pour le revêtement photorésist, le tournage et l'imagerie de motifs. Il utilise des algorithmes et des optiques très avancés pour aligner précisément un motif de la photomasque sur la couche de photorésist. Le système est capable d'obtenir des images haute résolution qui peuvent être commandées jusqu'à une fraction de micron. TOKYO ELECTRON/TOKYO TOKYO ELECTRON MARK V-Z utilise une méthode brevetée d'enrobage de spin utilisant un palier à air capable de tourner jusqu'à 3000 tr/min. Cette méthode est idéale pour les revêtements super minces, conformes et uniformes donnant lieu à une imagerie haute résolution. L'unité est capable de revêtir de grands substrats jusqu'à une taille de 1000 x 1000 mm. La machine peut également répéter avec précision les recettes et les recettes peuvent être clairement définies et maintenues. Cela garantit que le revêtement peut être répliqué avec précision et précision. Les photolines de TEL/TOKYO ELECTRON/TOKYO MARK-VZ sont également très précises et peuvent être ciblées avec précision sur un motif micron ou submicronique. Cela permet un degré plus élevé de précision et de précision lorsque le marquage et l'imagerie résistent. TEL/TOKYO MARK V-Z est conçu pour des performances maximales et est activé par une interface utilisateur graphique conviviale qui est simple à utiliser et à comprendre. Cela met l'outil à la disposition de tous les utilisateurs et garantit que même les processus les plus complexes peuvent être réalisés rapidement et avec précision. En conclusion, TOKYO ELECTRON/TOKYO TOKYO ELECTRON MARK Vz photoresist actif est un haut du modèle de ligne conçu pour la précision et la précision dans les processus de fabrication de photomasques et d'imagerie. Il utilise des algorithmes avancés de tournage et de revêtement pour fournir un motif uniforme et haute résolution. L'équipement est facile à utiliser et peut être utilisé pour une variété d'applications, y compris l'imagerie haute résolution.