Occasion TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9205494 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON MARK L'équipement de photorésistance Vz est une solution de lithographie qui permet d'intégrer à grande échelle des caractéristiques précises à l'échelle des microns. Le système est adapté à une utilisation dans des installations avancées de fabrication de plaquettes et d'appareils, et est capable de modéliser de façon fiable des caractéristiques de grand rapport d'aspect avec un excellent alignement d'enregistrement. TEL MARK-VZ est conçu pour répondre aux exigences de conception et de fabrication de plaquettes de pointe. La machine est capable de fournir des applications sur des plaquettes de silicium, Si-LDI (imagerie directe en couche de silicium) et des matériaux composés avec une vitesse et une précision supérieures. En fonctionnement, l'outil de photorésistance TOKYO ELECTRON MARK V-Z se compose d'un étage de balayage dédié, d'un scanner et d'un processeur de photorésistance. L'étage de balayage est composé de deux étages verticaux cubes, un étage d'alignement hexapode et un étage multi-segments. La configuration de l'étage est conçue pour optimiser l'agencement et la précision de positionnement pendant le balayage, permettant un recouvrement efficace entre les structures PMOS et NMOS. TEL MARK Vz photoresist actif est équipé d'un scanner laser diode-source qui peut modéliser des images haute définition à grande échelle en un seul coup. Le scanner utilise des faisceaux laser de grande puissance pour modéliser avec précision les caractéristiques de rapport d'aspect sur les substrats à motifs. Le scanner offre une exposition ultra précise, sans distorsion, fournissant des images exceptionnellement propres et uniformes. TEL MARK V-Z photoresist modèle dispose également d'un processeur qui offre une excellente précision chimique pour le développement humide et sec. Le processeur est conçu pour fournir des données cohérentes et une grande sensibilité pour le traitement de substrats difficiles à développer. Le processeur est également capable de délivrer des niveaux de cuillères post-exposition (PEB) et des algorithmes avancés de lithographie. TOKYO ELECTRON MARK L'équipement photorésist Vz est idéal pour une utilisation dans des environnements technologiques avancés où des caractéristiques extrêmement précises sont nécessaires. Il offre une solution rentable pour la lithographie pro-ton et le faisceau d'électrons pour permettre un tissage de haute qualité pour une variété de procédés. En outre, il est disponible dans une gamme de configurations pour répondre aux besoins spécifiques des clients.