Occasion TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9221713 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz est un équipement « photorésist » de haute précision, de meilleure qualité, conçu pour l'exposition aux photomasques et la gravure dans la production de semi-conducteurs. Il est utilisé pour l'imagerie et la création de circuits pour la microélectronique et l'optique. Le système est équipé de systèmes de micro-optique et d'imagerie de projection pour la manipulation d'une gamme de substrats comprenant des métaux, des polymères, des produits organiques et des céramiques. La machine peut manipuler des substrats de taille aussi petite que 0,05 mm. L'unité intègre également des caméras haute résolution pour détecter et ajuster la courbure du substrat, en veillant à ce que chaque exposition soit précise et cohérente. La machine dispose d'un scanner laser UV à haute vitesse uniforme et d'un microscope optique à large champ pour un alignement précis du faisceau laser. Cette technologie permet à la machine de contrôler avec précision la dose d'exposition et la qualité d'impression. L'outil dispose également d'un outil de manutention automatique des plaquettes à grande vitesse. Le modèle est capable d'aligner le substrat avec précision dans les axes xaxis et y pour obtenir la meilleure uniformité d'exposition en classe. L'équipement est équipé d'un système de nettoyage du masque pour s'assurer qu'aucune poussière ou autre particule ne contaminera le masque ou le substrat pendant le processus d'exposition. Cette unité utilise des algorithmes avancés pour localiser et identifier les contaminants potentiels et les retirer du substrat. La machine dispose également d'un outil de développement très précis qui est capable de contrôler la quantité de développeur utilisé pour assurer la précision dans le processus de développement. Il dispose également d'une bibliothèque d'images qui peut stocker jusqu'à 400 000 images de modèles précédemment développés. Enfin, l'actif est capable de fournir des services de métrologie qui aident à s'assurer que la résistance exposée est à l'épaisseur désirée et que la résistance développée présente une qualité de motif constante. Cela permet de s'assurer que les appareils produits par imagerie sont de la plus haute qualité.