Occasion TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9250082 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz est un équipement de photorésistance développé pour permettre une lithographie UV avancée. La capacité de lithographie sophistiquée du système permet de réaliser un balisage précis des circuits microélectroniques, et c'est un outil idéal pour la réalisation de dispositifs de haute performance. TEL MARK-VZ utilise un rayonnement ultraviolet extrême (EUV) pour projeter un motif sur une plaquette avec une grande transparence, une aberration optique faible et un faible coût. Cette nouvelle technologie a été développée pour réduire l'aberration optique des processus ALD traditionnels. Les principaux composants de TOKYO ELECTRON MARK V-Z comprennent une source de lithographie EUV monochromatique, un masque de lithographie, un photomasque et un processeur de résistance. La source de lithographie EUV monochromatique est un ensemble de sources plasmatiques qui émettent un rayonnement de courte longueur d'onde de 13,5nm. Le masque de lithographie est conçu pour laisser passer la longueur d'onde optique spécifique du rayonnement EUV afin de créer des motifs sur la résine. Le masque joue également le rôle d'élément de diffraction. Le photomasque est une plaque opaque avec des dessins à base de chrome qui sont utilisés pour créer les motifs désirés. Le processeur de résines est une unité qui peut contrôler le temps d'exposition, la température et la concentration de la résines pour permettre une mise en forme précise du substrat. MARK V-Z est également un outil idéal pour les processus de post-développement tels que le dépoussiérage, la pulvérisation ou la cuisson au four, ainsi que pour les électrodes internes et les cadres en plomb. De plus, TEL MARK V-Z est une machine très flexible, permettant de créer des technologies telles que la gravure d'oxyde de tampon et la gravure de masque d'ombre. Dans l'ensemble, TEL/TOKYO TEL/TOKYO ELECTRON MARK V-Z est un outil de photorésistance fiable et efficace qui permet d'améliorer considérablement la précision au niveau des pixels. C'est un outil idéal pour la production moderne de puces, et sa précision, sa flexibilité et sa fiabilité en font un excellent choix pour les fabricants de dispositifs microélectroniques.