Occasion TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9386549 à vendre en France
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ID: 9386549
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1995
(1) Coater / (2) Developer system, 6"
(4) Spin bodies
Power box
Chemical box
Temperature control unit
T and H (Auxiliary part)
Chuck, 6"
Transfer arm
Centering alignment
Index:
(2) Load ports
25-Slots mapping
Spin coater:
(2) Resist nozzles
PR Nozzle temperature control
Dummy dispense system
Vacuum chuck
Resist suck back
Back rinse nozzle
EBR Nozzle rinse
IWAKI Bellows pump
EBR Back flow meter
Upper and lower cup
Exhaust: Auto damper
Facility drain line
Nozzle moving: Stepping motor
Temperature and Humidity Controller (THC) Coater chamber
Spin motor:
AC Servo motor: 0-5000 RPM, ±2 RPM
Maximum: 5000 RPM
(2) Spin developer:
Develop nozzle temperature control
Vacuum chuck
DI Rinse
Back rinse nozzle
Upper and lower cup
Developer flow meter
Back rinse nozzle
DI Rinse
(4) Hot plates, 6"
PID
PT Temperature sensor
Program time: 0 ~ 990 sec (set 1sec)
Temperature range: 50°C - 180°C
(3) Cooling plates, 6"
PID
PT Temperature sensor
Range: 15°C - 35°C
AD Plate, 6"
PID
PT Temperature sensor
HMDS Vapor chamber cover
HMDS Bubbling tank
Program time: 0 - 990 sec (set 1sec)
Temperature range: 50°C - 180°C
Chemical cabinet:
Photo resist system
Bottle (1 Gal): Trap tank, (2) Nozzles
HMDS Tank: 2.5 L
Thinner: Canister (5 GL)
Developer: Canister (5GL)
1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz est un équipement de photorésistance doté d'une technologie de photorésistance positive et négative. Ce système permet de développer des résistances pour diverses applications, notamment celles de conception à haute résolution, compatibles avec les semi-conducteurs. Le TEL MARK-VZ breveté peut précisément former des motifs dans la gamme des nanomètres. L'unité dispose d'un support de substrat qui permet de placer des échantillons de toute taille sur la plate-forme. Sa surface de couverture est suffisante pour accueillir d'énormes plaquettes, et la précision de l'étage du substrat assure la précision du positionnement. TOKYO ELECTRON MARK V-Z comprend également une tête d'exposition, avec un faisceau d'éclairage gaussien primé et une position de focalisation adaptable. Cela permet une plus grande précision et une cohérence d'exposition optimale. En lithographie, la fonction PATMAX de MARK V-Z garantit la précision des motifs. Il utilise les derniers algorithmes évolutifs pour produire les meilleurs résultats possibles. La machine comprend également des fonctionnalités telles que l'auto-calibrage et la résolution automatique, qui réduisent les étapes manuelles, travaillent à réduire le temps et améliorent l'efficacité globale. De plus, l'optique d'éclairage sèche très réfléchissante est dotée d'un réflecteur supersymétrique HRI original (SHR), permettant jusqu'à quatre-vingt-huit fois plus d'énergie lumineuse que les systèmes existants. Cela permet des résolutions d'exposition plus élevées et diminue considérablement le temps de traitement. L'optique offre également une uniformité optimisée, ce qui rend MARK-VZ optimal pour les procédés avancés de lithographie et de fond comme le nettoyage et la gravure des plaquettes. L'outil intègre une suite logicielle CENTRAL, qui permet un contrôle facile du processus d'exposition et l'accès aux paramètres de la machine. Il fournit également une vue 3D pour l'évaluation des progrès et permet des opérations avancées. En soutenant la gestion d'un maximum de quatre systèmes d'exposition, CENTRAL assure la plus grande précision d'exposition. Ce nouvel actif photorésist de TEL utilise les dernières technologies et algorithmes pour atteindre une précision et une efficacité remarquables. Avec une optique sèche puissante et une suite logicielle pour un contrôle avancé, MARK Vz peut être le modèle photorésist idéal pour les applications semi-conductrices les plus exigeantes.
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