Occasion TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9399374 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz est un nouvel équipement de photorésistance conçu pour améliorer la précision et la vitesse des processus d'imagerie photorésiste. La photorésist est un matériau organique ou inorganique qui est utilisé pour transférer un motif sur un substrat. TEL MARK-VZ se compose d'une unité de lithographie sans masque (MLL) et d'une unité d'optique de projection à haute résolution. L'unité MLL est l'équipement clé utilisé dans l'unité et est capable de projeter avec précision des motifs sur des substrats à l'aide de répétitions optiques ou d'une géométrie de projection monoplace. L'unité d'optique de projection de la photorésist TOKYO ELECTRON MARK V-Z utilise un micromireur numérique avancé (DMD) pour gérer la projection de petits faisceaux. Ce DMD utilise de minuscules miroirs multi-angles pour ajuster précisément le niveau d'exposition et la focale pour chaque position de motif sur le substrat. Ce processus de réglage assure une imagerie haute résolution et un contrôle précis de l'exposition. Les miroirs multi-angles de l'unité d'optique de projection sont capables de projeter tout le spectre de la lumière visible, ainsi que le rayonnement ultraviolet et infrarouge. L'unité MLL de l'outil de photorésistance MARK V-Z dispose également d'un écran de projection d'émission de champ (FED). Cet écran peut être utilisé pour placer et dimensionner avec précision des motifs de différentes tailles. L'écran de projection FED est également extrêmement lumineux, ce qui le rend adapté aux applications en photolithographie. En outre, cette unité MLL peut être utilisée avec une gamme de matériaux pour différents procédés d'imagerie, y compris des résines amplifiées chimiquement, des résines activées chimiquement et des résines thermiques. En plus de l'équipement MLL et d'optique de projection, TEL MARK Vz photoresist actif dispose également d'une gamme de fonctionnalités pour faciliter les processus d'imagerie. Par exemple, ce modèle peut stocker des recettes pour jusqu'à 35 modèles dans la base de données de modèles. Cela garantit qu'un utilisateur peut rapidement charger et commencer le processus d'imagerie rapidement. L'équipement dispose également d'un processus d'alignement optique automatisé pour s'assurer que les motifs sont projetés avec précision sur la surface du substrat. En outre, ce système peut ajuster automatiquement l'exposition au motif afin que les utilisateurs puissent facilement définir le temps et le niveau d'exposition dont ils ont besoin. Dans l'ensemble, l'unité de photorésistance TEL MARK V-Z fournit une machine d'imagerie photorésiste fiable, précise et rapide. Ses unités MLL et d'optique de projection sont capables de projeter avec précision des motifs sur différents substrats, tandis que ses processus automatisés d'alignement optique et d'exposition facilitent la mise en place et l'exécution du processus photorésist. En outre, les utilisateurs peuvent stocker jusqu'à 35 modèles différents pour les processus d'imagerie, ce qui rend cet outil idéal pour les projets à faible et à haut volume.