Occasion TEL / TOKYO ELECTRON NS 300 #9245729 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
TEL/TOKYO ELECTRON NS 300 est un équipement de photorésistance idéal pour les procédés de photolithographie et de dépôt de couches minces. Il est fabriqué et fourni par TEL (TOKYO ELECTRON), le plus grand fournisseur mondial d'équipements de production de semi-conducteurs. Le système présente plusieurs caractéristiques qui optimisent les procédés de photolithographie parmi d'autres procédés de dépôt de films. TEL NS 300 peut traiter des substrats de 75 mm et 150 mm avec un contrôle de caractéristiques de 2 microns. Il a des capacités avancées pour la planéité des plaquettes, la modification du profil et l'arrondi des bords. L'unité permet également un contrôle de recouvrement serré avec une précision de 0.5um. La machine utilise une technique de refoulement de gaz pour réduire les problèmes complexes d'outillage porte-air, assurant un mouvement mécanique lisse et constant. L'actif est contrôlé par PC et un modèle d'interface utilisateur graphique le rend facile à utiliser. L'unité de conduite PSM offre une mobilité excellente et rapide. Avec une vitesse de balayage maximale de 70 mm/s, l'équipement assure un processus de photolithographie plus rapide que les méthodes traditionnelles. Un système programmable de contrôle des tâches permet une grande personnalisation des fonctionnalités et des mouvements libres. Il permet également à l'utilisateur d'explorer les paramètres programmables pour assurer l'optimisation des conditions de processus. L'unité dispose également d'une machine automatique de détection d'extrémité avec une précision de 0,2 um et l'extrémité est basée sur le signal optique du substrat. TOKYO ELECTRON NS300 est équipé d'une source de faisceau d'ions stable pour réduire la dérive de l'outil et assurer une bonne cohérence des performances. Le porte-plaquettes et l'étage de positionnement de l'échantillon sont chauffés et refroidis séparément et peuvent atteindre des températures allant jusqu'à 200 degrés Celsius. Cette plage de température est optimale pour les procédés de photolithographie. L'atout a également une caractéristique unique de fournir in-situ simulation/démonstrations en temps réel pour aider dans la sélection et la mise en service de l'équipement. Il est également équipé d'une interface laser blindée préconfigurée pour optimiser davantage l'exposition au faisceau. Ce modèle est une solution unique pour tous les processus avancés de photolithographie. C'est un équipement facile à utiliser avec de grandes caractéristiques pour assurer une grande performance et fiabilité. Le système est adapté au traitement des plaquettes à grande vitesse et peut être utilisé pour créer des applications dans les produits semi-conducteurs, carte de circuit imprimé, circuit intégré et micro-électromécanique (MEMS).
Il n'y a pas encore de critiques