Occasion TEL / TOKYO ELECTRON NS 300 #9251833 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON NS 300
ID: 9251833
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2005
System, 12" 2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON NS 300 est un équipement de photorésistance très avancé et spécialisé pour le dépôt de motifs micro-échelle et nanométriques sur des surfaces de substrat. Il est spécifiquement conçu pour être utilisé dans la fabrication de dispositifs tels que des circuits intégrés, qui nécessitent une grande précision pour le dépôt de motifs. Le TEL NS 300 est composé de trois composants principaux : un système de contrôle informatique, un scanner à faisceau et un canon à faisceau d'électrons. L'unité de commande informatique est chargée de commander le scanner de faisceau, qui oriente et balaye le faisceau d'électrons en mouvement continu ou pas à pas, permettant de contrôler le motif de dépôt de la résine photosensible. Le canon à faisceau d'électrons est un dispositif de haute intensité qui génère un faisceau d'électrons avec un degré élevé de précision. Ce faisceau d'électrons est alors dirigé sur la surface du substrat, où la résine photosensible est déposée. TOKYO ELECTRON NS300 Photoresist Machine offre des fonctionnalités polyvalentes et de haute précision. Il est équipé de mécanismes de rétroaction intelligents qui peuvent détecter tout défaut dans les caractéristiques du faisceau ou du motif de surface. Cela permet à l'utilisateur de régler la direction du faisceau et l'énergie pour s'assurer que le motif désiré est produit. L'outil est également équipé d'une variété de schémas d'encodage de motifs, comprenant à la fois une et deux configurations dimensionnelles, pour fournir une capacité de dépôt plus polyvalente. Outre ses capacités de fonctionnalisation avancées, TEL/TOKYO ELECTRON NS300 Photoresist Asset offre également un procédé de revêtement économique et à haute résolution. Ceci est dû à sa capacité à déposer sur la surface du substrat une fine couche de matériau présentant une excellente adhérence sur la surface du substrat. Le coût du procédé est minimisé en raison de la grande efficacité du modèle. TEL NS300 Photoresist Equipment est une plate-forme avancée qui fournit des composants essentiels pour la fabrication de dispositifs utilisant des techniques photolithographiques. Il est très fiable et efficace, avec des capacités de fonctionnalisation polyvalentes et un processus de revêtement rentable et à haute résolution.
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