Occasion TEL / TOKYO ELECTRON PHP Oven for ACT 8 #9314751 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON PHP Four pour ACT 8 est un équipement de photorésistance de pointe utilisé pour une gamme de processus lithographiques critiques. Il offre une combinaison de caractéristiques qui soutiennent le développement précis, reproductible et cohérent de couches photorésistantes, qui sont essentielles pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et microélectroniques. TEL PHP Four pour ACT 8 utilise une technologie de vide propriétaire avancée pour obtenir une haute résolution avec un excellent contrôle des bords de ligne et de la largeur de ligne. En outre, le système a une géométrie optimisée qui facilite des performances de processus supérieures. Le four PHP dispose également d'une nouvelle unité de transfert d'énergie qui améliore l'uniformité et la répétabilité, et assure un transfert thermique rapide. En outre, cette énergie de four est contrôlée et contrôlée avec précision pour assurer la répétabilité et la reproductibilité du procédé, et pour fournir les hautes performances requises. En outre, TOKYO ELECTRON PHP Oven for ACT 8 comprend une large gamme d'options de processus modulaires intégrés. Ceux-ci sont conçus pour répondre aux besoins spécifiques de planarisation, de lithographie et de cuisson post-exposition du procédé photorésist moderne. Par exemple, une plaque flottante programmable et une option multi-zones sont disponibles pour les processus spécialisés. Le four PHP permet le développement d'une couche de photorésist avec une résolution supérieure, une uniformité des bords de ligne et des résultats répétables sans particules. De plus, lorsque le post-traitement intégré est nécessaire, le four PHP peut être combiné avec un four à cendres intégré pour les processus critiques propres. En résumé, PHP Four pour ACT 8 est une machine de photorésistance avancée qui combine plusieurs fonctionnalités pour assurer des performances élevées et une répétabilité optimale du processus. Il facilite la réalisation de couches photorésistantes supérieures de manière rapide et fiable, tout en offrant des options de modules intégrés pour des procédés spécialisés. En tant que tel, c'est un choix idéal pour la lithographie critique et les processus de planarisation.