Occasion TEMPRESS 420 #104136 à vendre en France

TEMPRESS 420 est un type de système de photorésistance. Il s'agit d'un matériau photolithographique utilisé dans les procédés de gravure et de gravure, principalement dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. 420 est un photorésist positif fonctionnel et amplifié chimiquement. Il résiste aux expositions au rayonnement dans les régions ultraviolettes et profondes du spectre électromagnétique, ainsi qu'aux faisceaux d'électrons et aux rayons X. TEMPRESS 420 est très photosensible, a une excellente photospeed, et peut être utilisé pour produire une excellente résolution de ligne. La résine forme des structures de résistance facilement amovibles, du fait de son taux élevé de dissolution de la résistance, ce qui permet des procédés de gravure plus faciles et moins coûteux. La résistance offre des performances globales améliorées par rapport aux systèmes de photorésistance classiques. 420 contient deux composants. La première est une résine polyphénolique, qui sert de stabilisateur et fournit une réflexion optique améliorée de la résine photosensible, permettant une meilleure profondeur de focalisation. L'autre partie de la résine photosensible est un monomère d'acrylate, qui est polymérisé lors du processus d'exposition. Les molécules monomères gonflent et se convertissent en solide lorsqu'elles sont exposées au rayonnement, protégeant le substrat microélectronique sous-jacent de l'attaque par la gravure ou le procédé de gravure. Lors de l'exposition au rayonnement, la résine polyphénolique et l'acrylate monomère polymérisent, formant une image positive dans la résine. De plus, le monomère acrylate assure une très bonne adhérence de la résine photosensible sur la plaquette sous-jacente, ce qui permet d'améliorer les profils de gravure et la largeur des lignes. Un autre avantage de TEMPRESS 420 est sa compatibilité avec les procédés photolithographiques, permettant un positionnement précis de la photorésist. La photolithographie est un procédé qui utilise un rayonnement à haute énergie pour produire des motifs d'éléments microélectroniques sur une plaquette. Le rayonnement est typiquement de fréquence étroite, ce qui permet une grande précision dans la fixation de très petits éléments sur les substrats. Ceci permet l'utilisation de masques très précis avec des motifs précis, qui sont essentiels pour la réalisation de dispositifs microélectroniques complexes. Enfin, la 420 est un système photorésist très écologique, car elle ne contient pas de COV (composés organiques volatils) et les composants actifs ont une faible toxicité. Il peut donc s'agir d'un choix privilégié pour les installations de production respectueuses de l'environnement. En conclusion, TEMPRESS 420 est un système de photorésist positif fonctionnel et amplifié chimiquement qui fournit d'excellentes performances lorsqu'il est utilisé pour graver et graver des substrats microélectroniques. Il offre une meilleure photospeed, une excellente résolution de ligne, et une meilleure adhérence de la photorésist sur la plaquette sous-jacente. En outre, il est compatible avec les procédés photolithographiques, ce qui le rend idéal pour les modèles complexes, et est écologique et peu toxique.