Occasion TOHO KASEI SD-08 #9280582 à vendre en France

TOHO KASEI SD-08 est un système de lithographie haute performance et de précision utilisé dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il est idéal pour la fabrication de dispositifs avancés, offrant un haut degré de précision et de répétabilité tout en permettant les rendements les plus élevés dans la production de dispositifs semi-conducteurs avancés. SD-08 utilise les dernières technologies de photolithographie, y compris la résolution de résistance de sous-demi-micron, le contrôle de l'uniformité et la lithographie masquée de haute pureté. Il intègre également plusieurs procédés de revêtement de matériaux, y compris le revêtement de spin, l'application d'airbrush et le revêtement de spray statique. TOHO KASEI SD-08 est une machine de lithographie sans masque trois en un composée d'une scène de maintien d'objet, d'une étape d'exposition des plaquettes et d'une étape de retrait de la résistance. L'étape objet est responsable de l'enregistrement précis de l'objet pour l'alignement et l'exposition. L'étape d'exposition, qui est composée de deux sources laser, émet le faisceau laser à une longueur d'onde de 193 nanomètres pour effectuer une exposition chimique microscopique sur l'objet. L'étape d'élimination de la résistance utilise alors l'agent de strippage à base de thiol pour éliminer la résistance exposée, ne laissant que la résistance à la rupture intacte. SD-08 offre un haut degré de résolution et de précision pour la production avancée de dispositifs. La longueur d'onde laser de 193 nanomètres fournit un niveau de résolution élevé en permettant une résolution de résistance de sous-demi-microns. De plus, le contrôle de l'uniformité du laser garantit que la même quantité d'énergie laser est dirigée vers chaque point de l'objet, ce qui entraîne une exposition précise. Enfin, la lithographie sans masque assure que le processus de photolithographie est exempt d'erreurs dues à un mauvais alignement ou à un enregistrement inexact des masques. TOHO KASEI SD-08 est idéal pour la production avancée de dispositifs semi-conducteurs, offrant un haut degré de précision, de précision et de résolution. Avec sa source laser et son contrôle d'uniformité, SD-08 garantit que les rendements les plus élevés sont atteints grâce à un alignement et une exposition précis. Son agent de décapage à base de thiol assure également une élimination rapide et facile de la résistance exposée, ne laissant intacte que la résistance recherchée.