Occasion TOHO KASEI SD-08 #9280838 à vendre en France

TOHO KASEI SD-08 est un équipement de photorésistance développé par TOHO KASEI Co., Ltd. pour le revêtement et le traitement de substrats pour les applications électroniques, optoélectroniques et MEMS. Le système est livré avec deux technologies innovantes qui ne se trouvent pas dans d'autres systèmes de photorésistance. La première technologie est le nouveau Substrat Dirigent Dispensing Method (SDD). Ce procédé utilise un mécanisme propriétaire de distribution de précision qui est capable de fournir un revêtement uniforme de photorésist à des substrats pouvant présenter des caractéristiques différentes telles que des épaisseurs, des courbures et des orientations de substrat différentes. Cette application précise de la résine photosensible assure une couverture uniforme et une traçabilité plus précise sans nécessité de post-traitement supplémentaire. La deuxième technologie présente dans SD-08 est sa méthode avancée de détection des émissions de photons Hotspot (PEHD). Ce procédé permet à TOHO KASEI SD-08 de détecter l'altération du diagramme de distribution d'énergie de la photorésist et du substrat provoquée par le chauffage du substrat lors d'une exposition à un faisceau laser. Cela permet à l'unité d'ajuster automatiquement la puissance laser et d'autres paramètres pour assurer une exposition optimale, ce qui permet un meilleur transfert de motifs et une imagerie de haute précision. SD-08 est également livré avec d'autres fonctionnalités utiles telles que le module de photographie haute sensibilité, qui aide à obtenir des images à plus haute résolution, et une machine de contrôle de l'épaisseur de couche, qui permet à l'utilisateur de régler l'épaisseur de la couche de photorésist pour un processus de découpage plus précis. En résumé, TOHO KASEI SD-08 est un outil de photorésistance avancé qui dispose de deux technologies - la méthode de distribution de dirigent de substrat et la méthode de détection de hotspot d'émission de photons - pour fournir une application plus juste et plus précise de la photorésist et assurer une exposition laser optimale pour un meilleur transfert de motifs et une imagerie de haute précision. Ses autres fonctionnalités utiles complètent cet atout comme une solution de photorésistance polyvalente et avancée pour l'électronique, l'optoélectronique et les applications MEMS.