Occasion TRYMAX NEO-3000 #9269770 à vendre en France

TRYMAX NEO-3000
Fabricant
TRYMAX
Modèle
NEO-3000
ID: 9269770
Reactive Ion Etcher (RIE) 2010 vintage.
TRYMAX NEO-3000 est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour des applications de lithographie avancées. Il utilise une combinaison de technologies innovantes, conçues pour permettre une adéquation supérieure des expositions connexes. Il s'agit notamment de la modulation d'intensité positive à l'échelle de Grayale (G-PIM), de l'alignement vertical (VA2) et du placement sélectif de motifs (SPP), qui, ensemble, permettent une adaptation avancée des motifs entre les couches de résistance photo. Le résultat est que les tailles fines des fonctionnalités et une bonne uniformité CD peuvent être atteints avec un ajustement minimal des paramètres d'exposition. NEO-3000 dispose d'un scanner vectoriel multiphasé haute précision et haute vitesse avec des largeurs de balayage variables. Il s'agit d'un appareil extrêmement précis, capable d'atteindre une précision de +/-0,2 um pour le contrôle de la taille des fonctionnalités. Cette précision permet une excellente adaptation des motifs entre différentes couches de résistance photo avec des niveaux de réglage beaucoup plus faibles nécessaires. Le système comprend également une source lumineuse haute fréquence, associée à une large gamme de paramètres de contrôle d'exposition personnalisables. Cela permet aux utilisateurs d'obtenir la précision et la profondeur de coupe exactes dont ils ont besoin. De plus, TRYMAX NEO-3000 dispose d'un outil de dosage qui permet de contrôler avec précision le temps et la dose d'exposition en fonction des paramètres définis par l'utilisateur. NEO-3000 comprend également une suite de systèmes de surveillance, qui permettent aux utilisateurs de surveiller les performances de l'unité en temps réel, aidant à minimiser les pratiques susceptibles d'erreur. Dans l'ensemble, TRYMAX NEO-3000 est une machine de photorésistance avancée, conçue pour fournir une correspondance de motifs supérieure entre les couches de photorésistance, avec de très faibles niveaux de réglage nécessaires, ainsi qu'un niveau élevé de précision et de répétabilité. C'est la solution parfaite pour toute application de lithographie qui nécessite un placement précis des motifs, un ajustement complexe des motifs ou un contrôle de la taille des fonctionnalités.
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