Occasion TRYMAX NEO-3000 #9289373 à vendre en France

TRYMAX NEO-3000
Fabricant
TRYMAX
Modèle
NEO-3000
ID: 9289373
Style Vintage: 2010
Reactive Ion Etcher (RIE) 2010 vintage.
TRYMAX NEO-3000 est un nouvel équipement de photorésistance doté de capacités avancées d'alignement et de traitement de photorésist. Le système est une solution robuste et fiable pour les applications de photolithographie, offrant un traitement efficace et précis. Il est conçu pour fournir des résultats de haute qualité, réduire le temps de cycle et maximiser le débit. NEO-3000 unité utilise une machine à lentilles optiques propriétaire. Cet outil a été conçu pour fournir un débit lumineux supérieur et une résolution d'image accrue, permettant un traitement précis et précis des photomasques complexes. L'actif dispose également de capacités d'alignement avancées, contribuant à assurer des résultats optimaux. TRYMAX NEO-3000 comprend également un module sophistiqué de commande d'axe micro-pas. Le module permet un contrôle précis et fréquent de l'équipement de la lentille du modèle, ainsi qu'un contrôle de mouvement et un autofocus de haute précision. Cela permet de s'assurer que la quantité correcte de résine photosensible est appliquée et que les motifs sont traités avec précision. Le logiciel du système rend le travail de mise en place et de contrôle de l'unité plus simple et plus efficace. C'est une interface conviviale, avec une interface utilisateur graphique permettant un réglage facile des paramètres et un suivi des opérations. En outre, il est équipé d'une base de données qui aide à stocker et à organiser les données de processus, et de recettes intégrées afin que les opérations puissent être répétées rapidement et avec précision. En outre, NEO-3000 est conforme aux exigences CE et RoHS, et est livré avec une gamme supplémentaire de pièces de rechange et d'accessoires de sorte que la machine peut être rapidement et facilement mis à niveau au besoin. En résumé, TRYMAX NEO-3000 est un excellent outil de photorésistance, adapté à une large gamme d'applications de photolithographie. Il est doté d'une conception optique avancée, d'un contrôle de mouvement sophistiqué, d'une interface conviviale et d'un autofocus de haute précision. Il est à la fois fiable et efficace, avec la capacité d'acquérir des résultats de haute qualité et de faible cycle dans des installations occupées.
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