Occasion ULTRA OPTICS Mini II #293597469 à vendre en France

ULTRA OPTICS Mini II est un équipement de photorésistance développé par ULTRA OPTICS et utilisé pour la micro-modélisation de précision. Les photorésistes sont des matériaux qui subissent des changements de solubilité lors de l'exposition à des rayonnements électromagnétiques spécifiques, tels que la lumière ultraviolette. Mini II offre une exposition sélective en longueur d'onde et une photochimie qui peuvent créer des motifs complexes sur des surfaces photorésistantes. Ce système utilise une source lumineuse dont le spectre peut être ajusté pour correspondre au motif désiré. Il permet la précision et la flexibilité dans la gamme d'exposition, ce qui le rend idéal pour créer des motifs complexes et orientés vers le détail. Il est également livré avec une table à vide pour créer des motifs haute résolution avec une distorsion minimale. Grâce à sa conception conviviale, l'unité peut être utilisée dans des laboratoires, des universités et d'autres installations similaires. La machine peut facilement être adaptée à des applications spécifiques. Avec la fonction de réglage d'angle, différents angles d'exposition peuvent être fournis. L'outil permet également de contrôler le temps pour assurer la précision de l'exposition. Pour plus de commodité, ULTRA OPTICS Mini II comprend un atout d'étalonnage automatique en option. Cela permet à l'utilisateur d'ajuster rapidement et avec précision l'exposition pour divers matériaux de résistance, substrats et conditions de processus. Le modèle est également capable de fournir un support pour différents photorésistants. Avec un bon prétraitement du substrat, même des matériaux à faible contraste ou très absorbants peuvent être manipulés avec l'équipement. Le système est également capable de produire des modèles à haute résolution en utilisant des techniques d'exposition avancées, telles que l'exposition froide et profonde. Mini II offre des performances fiables et la durabilité. Ceci est dû à son design robuste et durable, ainsi que son unité de lumière supérieure. La stabilité de l'unité assure également la cohérence de ses performances lors d'une utilisation prolongée. Dans l'ensemble, ULTRA OPTICS Mini II est un choix idéal pour créer des micro-motifs complexes et détaillés sur des surfaces photorésistantes. Cette machine offre précision et flexibilité dans la gamme d'exposition, ainsi que le support pour différents photorésistes. Sa conception conviviale et ses performances robustes le rendent apte à être utilisé dans les laboratoires, les universités et d'autres installations similaires.