Occasion ULTRA OPTICS Mini II #9218885 à vendre en France

ULTRA OPTICS Mini II est un équipement de photorésistance qui utilise la lumière des UV et des sources visibles pour créer des motifs de lithographie sur les matériaux semi-conducteurs. Ce système est conçu pour être utilisé dans les laboratoires de recherche et développement et peut être utilisé pour créer des motifs micro et nanométriques sur des plaquettes semi-conductrices. L'unité utilise de la résine photosensible, un matériau sensible à la lumière qui ne permettra d'effectuer des réactions chimiques que lorsqu'il est exposé à une source lumineuse. La résine photosensible est appliquée sur la surface de la plaquette, puis exposée avec un masque. Le masque est un motif métallique ou SiO2 qui contient le motif de lithographie désiré. Après exposition, la plaquette est développée pour révéler le motif désiré. Mini II est capable d'exposer une large gamme de motifs de lithographie, et peut supporter une taille de substrat allant jusqu'à 8 pouces. Il utilise plusieurs sources laser allant de 180nm à 448nm, qui peuvent être commutées rapidement entre différentes longueurs d'onde. Cela permet à la machine d'être utilisée pour une gamme de projets de lithographie et à différentes résolutions. L'outil dispose également d'un écran à cristaux liquides qui permet une lecture rapide et facile. Cela garantit que les niveaux d'exposition sont corrects et que la configuration correcte est produite. ULTRA OPTICS Mini II est un atout fiable qui permet de créer des modèles relativement rapides sans sacrifier la qualité. Il est idéal pour les laboratoires de recherche et développement qui ont besoin de modèles de lithographie rapides et précis. Le modèle peut être utilisé avec différentes photorésistances, ce qui lui permet d'être utilisé pour différents projets avec des résolutions différentes.