Occasion ULTRA OPTICS Mini II #9277326 à vendre en France

ULTRA OPTICS Mini II est un nouvel équipement de photorésistance conçu pour fournir une fabrication fiable et de haute précision de composants micro-optiques dans différents substrats. Ce système combine plusieurs composants pour créer une photorésist très efficace et fiable. La machine offre d'excellentes performances de définition de passerelle et de faibles niveaux de défaut pour la fabrication de composants optiques. Il a une empreinte compacte pour les opérateurs d'accéder facilement et d'utiliser dans n'importe quel environnement de fabrication de microoptiques. L'outil utilise un atout de projection en rotation USQ 193nm de précision qui fournit une imagerie haute résolution au substrat. Ce modèle tournant permet un alignement extrêmement précis de la photorésist appliquée sur les géométries du substrat. L'équipement de projection est monté sur un étage XYZ pour un positionnement précis du substrat par rapport au foyer des faisceaux de projection. Le système utilise également un bras robotique 6-Axis pour transférer avec précision les substrats entre tous les modules de processus. L'unité de photorésistance utilise un jet de fluide d'immersion multi-jet qui fournit une distribution de photorésist très précise et précise au-dessus du substrat. Ce procédé réduit les déchets au cours du processus et assure une application précise de la résine photosensible. Une fois la résine photosensible appliquée, elle est exposée à une lumière polarisée circulaire pour la réaction de réticulation nécessaire pour former une image sur le substrat. Une machine d'imagerie ultraviolette visible est alors utilisée pour surveiller les zones réticulées. Un spin-coater automatisé peut être utilisé pour appliquer de la photorésist sur de grands substrats et fournir une application homogène. Cet outil spin-coater est intégré dans l'actif Mini II et permet l'application automatisée de revêtement photorésist qui offre une répétabilité et une précision de processus supérieures. Enfin, la précision du modèle photorésist est assurée par un équipement de contrôle intégré. Ce système permet à l'opérateur d'utiliser une interface graphique pour contrôler des paramètres tels que la dose de photorésist, le temps d'exposition de la caméra, la vitesse de distribution et la vitesse de rotation. Cela garantit que le processus d'imagerie est répétable et fiable. En résumé, ULTRA OPTICS Mini II est une unité de photorésistance avancée qui fournit une fabrication très fiable et précise de composants micro-optiques dans divers substrats. Il utilise une machine de projection rotative USQ 193nm de précision et un jet de fluide d'immersion multi-jet automatisé pour distribuer avec précision la résine photosensible. Un outil de contrôle intégré offre une répétabilité et un contrôle de précision des processus qui garantissent une fabrication fiable et de haute qualité.