Occasion ULTRA OPTICS Mini II #9316393 à vendre en France

ULTRA OPTICS Mini II est un équipement de photorésistance conçu pour des applications avancées de lithographie de faisceau d'électrons. C'est un système haute performance qui est capable de produire des images haute résolution avec une grande précision et précision. Mini II dispose d'une colonne de faisceau d'électrons à un étage avec un affichage de champ lumineux, qui permet un réglage dynamique de la résolution. Il offre une variété de techniques d'imagerie électronique ainsi qu'un mouvement manuel de précision du faisceau et de l'optique. Cette unité est également équipée d'une machine d'alignement automatique qui aligne précisément chacun des faisceaux et objets nécessitant une imagerie. ULTRA OPTICS Mini II utilise des photorésists pour créer des fonctionnalités de haute résolution. Les photorésistes sont des matériaux sensibles à la lumière, notamment aux ultraviolets (UV), et lorsqu'ils sont exposés à la lumière UV, ils sont chimiquement modifiés, l'intensité de la lumière jouant un rôle dans leur réactivité. Mini II outil dispose d'une variété de types de photorésist, à la fois négatif et positif, pour une large gamme d'applications. Tous les types de photorésist disponibles sont conçus pour fonctionner avec la colonne de faisceau d'électrons mono-étage sur ULTRA OPTICS Mini II. Lorsque vous utilisez Mini II, l'utilisateur peut ajuster le courant et la vitesse du faisceau, ainsi que la focalisation, pour obtenir les meilleurs résultats d'exposition pour différents types de photorésist. De plus, différents modèles d'analyse, tels que les motifs raster, rectiligne, spirale et hessel, peuvent être pré-programmés avant l'exposition pour obtenir la meilleure résolution possible. ULTRA OPTICS Mini II est conçu pour l'imagerie précise de diverses caractéristiques et motifs, ce qui le rend bien adapté aux processus de fabrication tels que la fabrication de semi-conducteurs. Il est capable de produire des tailles de caractéristiques allant de 0,2 nanomètres à plusieurs microns. En outre, cet atout est conçu pour la facilité d'utilisation et offre une gamme complète d'accessoires logiciels, élargissant encore sa capacité. En résumé, le Mini II est un modèle avancé de lithographie par faisceau d'électrons conçu pour les besoins de fabrication. Il est équipé d'une colonne avancée de faisceau d'électrons à un étage qui permet un réglage dynamique de la résolution, ainsi que d'une variété de matériaux photorésistants disponibles pour de nombreuses applications différentes. Avec son imagerie de précision et un ensemble complet d'accessoires logiciels, ULTRA OPTICS Mini II est un équipement idéal pour la microfabrication avancée.