Occasion ULTRON SYSTEMS INC / USI UH 102-8 #9159218 à vendre en France

ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 102-8 est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour la production de puces à haute résolution, d'appareils électroniques à couches minces et d'autres composants microélectroniques. Le système utilise l'exposition aux ultraviolets profonds (DUV) pour le processus de lithographie, ce qui permet un contrôle des dimensions critiques (CD) très précis. L'unité est équipée d'une source lumineuse DUV à haute puissance à vapeur de mercure, d'une unité pas à pas/scanner et d'une unité d'alimentation, ainsi que de composants d'alignement d'étages de plaquettes et de masques. Il comprend également une machine d'alignement optique multi-canaux, un étage de plaquettes et un contrôleur. L'outil peut maintenir des motifs de résistance uniformes sur l'ensemble de la plaquette et fournit une excellente stabilité à long terme et la répétabilité du processus. L'optique avancée intégrée à l'actif USI UH 102-8 offre un contrôle exceptionnel, notamment avec une ligne étroite et de petites tailles de contact/via. Sa source DUV offre une longueur d'onde de 360nm-420nm, assurant que les niveaux d'exposition sont optimisés pour des besoins d'imagerie spécifiques. De plus, l'étage de wafer fermé enferme la zone d'imagerie dans un vide continu, minimisant les effets d'oxydation et de dégazage. Le mécanisme multi-axes de précision du modèle est conçu pour supporter l'exposition à haute vitesse pour les appareils d'imagerie avec le plus petit CD possible. Son unité d'alimentation exclusive assure que l'exposition au DUV reste stable et constante sur l'ensemble de la plaquette. En outre, l'équipement dispose de capacités d'automatisation de processus de haut niveau, y compris la panne, la dérive et la compensation des dérives. L'opérateur peut également ajuster les paramètres de la source d'exposition, jusqu'au niveau du sous-micron, avec une surveillance et un contrôle automatiques du processus. Au total, ULTRON SYSTEMS INC UH 102-8 est un système de photorésistance avancé conçu pour répondre aux exigences les plus élevées pour la fabrication de microélectroniques. Sa combinaison d'optique précise, de fonctionnalités automatisées et d'alimentation robuste assure la production de composants de haute qualité avec une efficacité exceptionnelle.