Occasion ULTRON SYSTEMS INC / USI UH 110 #9099954 à vendre en France

ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 110 est un équipement de photorésistance qui a été développé pour le traitement de précision de divers substrats. Il utilise une méthode d'application avancée du rayonnement UV pulsé pour la production de microstructures de grande surface. Ce système est largement utilisé dans les industries liées à la photonique, l'optoélectronique, la technologie médicale et le traitement des semi-conducteurs. L'unité de photolithographie comprend une machine de manutention de substrat, un masque, une source de lampe, un moniteur de longueur d'onde et une unité de commande. L'outil de manutention du substrat comprend une table fixe de maintien du substrat, et plusieurs étapes de transport, de contrôle de transport et de positionnement. Le masque est utilisé pour former une forme et un motif désirés sur le substrat, et est généralement en verre ou en métal. Il est précisément aligné sur le substrat à l'aide d'une série de manipulateurs. La source de lampe est une source UV disposée en disposition linéaire, et fournit des impulsions de rayonnement avec une émission de crête centrée à une longueur d'onde de 365nm. Il est capable de fonctionner à la fois en mode normal et en mode haute puissance. Un moniteur de longueur d'onde est utilisé pour assurer l'intensité constante de la lampe et l'uniformité de l'exposition à travers le substrat. L'unité de contrôle est utilisée pour contrôler l'ensemble de l'actif de photolithographie. Le modèle USI UH 110 photorésist offre un environnement pour les photomasques standard de production. Cet équipement est spécialement conçu pour imprimer de grandes surfaces avec une épaisseur et une uniformité de couche constante. Le système est équipé d'une unité de traitement d'image avancée, qui assure l'exactitude et la cohérence des images masquées. Il comprend également un algorithme puissant pour la détection et la correction automatisées des défauts. L'UFI prend en charge une large gamme de photorésistes tels que le film sec, le film liquide, l'époxy et les résistances photo à base d'argent. Grâce à son contrôle précis et ses capacités d'imagerie avancées, l'UFI peut produire n'importe quel nombre de microstructures avec une grande précision et une grande vitesse. La photorésistante UH 110 d'ULTRON SYSTEMS INC présente plusieurs avantages par rapport aux autres systèmes de photolithographie. Il dispose d'un temps de traitement d'image rapide en raison de ses sources de lampes linéaires à haute fréquence et de son outil de surveillance de la longueur d'onde. En outre, l'UFI peut traiter une variété de substrats, y compris le verre, le métal, la céramique et le plastique. Il a un faible coût de fonctionnement, car la source de lampe ne nécessite pas d'alimentation supplémentaire. En outre, l'UFI offre une variété de fonctions de traitement et de contrôle d'image, y compris la soustraction de fond, l'échelle d'image, l'alignement de masque, la compensation des défauts et de la largeur de ligne, et plus encore. Cela permet à l'utilisateur de produire rapidement et avec précision des images de haute qualité.