Occasion ULTRON SYSTEMS INC / USI UH 114-12 #293828033 à vendre en France

ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 114-12 est un équipement photorésist haut de gamme conçu pour une utilisation en laboratoire, industrielle et médicale. Ce système est conçu pour la production de masques de photolithographie à grande échelle, les éléments essentiels des systèmes de photolithographie. Cette unité intégrée est composée de deux composants principaux : une machine de lithographie et une station de photorésistance. L'outil de lithographie est chargé de produire des impressions sur des matériaux photographiques de haute qualité, tandis que la station de photorésistance est utilisée pour créer un masque de photorésist avec le motif souhaité des caractéristiques. L'actif lithographique utilisé dans USI UH 114-12 est constitué d'une unité de projection et d'une unité de développement de masque. L'unité de projection est utilisée pour obtenir un négatif haute résolution d'un motif désiré sur un matériau photographique haute résolution tel que du silicone ou du quartz. Cette unité est capable de produire des détails d'image extrêmement précis dans des tailles allant de 0,25 microns à 40 microns. Il est équipé d'un appareil photo ultra haute résolution, qui peut être utilisé pour visualiser et ajuster précisément la taille de l'image, la focalisation, et d'autres caractéristiques. L'unité de développement du masque se compose d'une station de revêtement d'aérosols et d'une unité de développement du masque. Le poste de revêtement aérosol est utilisé pour appliquer une couche mince de photorésist sur le négatif fini. Une petite charge électrique est placée sur la résine photosensible, la faisant se déplacer sur la zone d'image du masque. Une fois la photorésist appliquée, l'unité de développement du masque est utilisée pour réaliser un masque de photorésist à partir des zones exposées. Une fois le masque développé et découpé, il peut être utilisé pour la lithographie. ULTRON SYSTEMS INC UH 114-12 est un modèle de photolithographie très précis et polyvalent avec un certain nombre de caractéristiques. Il est idéal pour la production de petits et grands lots de masques photorésistants de qualité supérieure. L'équipement a un faible coût d'exploitation et est extrêmement facile à utiliser. En outre, le système est conçu pour être sans entretien, ce qui signifie qu'il est fiable et capable d'une utilisation prolongée. En outre, il offre une grande compatibilité avec une large gamme de matériaux photographiques. Cette unité de photolithographie polyvalente est parfaite pour les laboratoires, les applications industrielles et médicales.