Occasion ULTRON SYSTEMS INC / USI UH 114 #9292713 à vendre en France

ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 114 est un équipement photorésistant complet. Ses caractéristiques comprennent des capacités de calcul avancées, des performances de haut débit, et la précision du contrôle des processus. Le système photorésist dispose également de capacités de manipulation automatique des liquides et d'outils analytiques intégrés pour atteindre les résolutions souhaitées et les précisions de définition. L'unité de photorésistance fonctionne en transférant un motif d'énergie d'un agencement conçu sur une surface de substrat. La machine expose alors le substrat à un faisceau de lumière de haute intensité qui est modulé pour créer un motif désiré à la surface du substrat. Le faisceau lumineux est généré par un réseau de diodes électroluminescentes (LED) qui est relié à une source de faisceau d'électrons et à un outil de commande. Le faisceau est alors guidé par un actif optique qui disperse le faisceau de telle sorte qu'il soit alors focalisé sur la surface du substrat. Le modèle photorésist est conçu pour permettre une modélisation précise et répétable des dispositifs et circuits microélectroniques. Il offre également des capacités d'imagerie à très haute résolution grâce à son contrôle précis de l'intensité lumineuse, des précisions temporelles et spatiales et de la modulation d'intensité. L'équipement de photorésistance dispose d'une large gamme d'options de mise en forme, y compris un processus multicouche qui permet de modeler en 3D avec précision des dispositifs complexes. En outre, le système peut être utilisé dans une variété de processus de lithographie selon le type de circuiterie et la complexité de mise en page. L'unité photorésist présente également des performances élevées en termes de performances de débit, de définition des bords, de précision de recouvrement et de fidélité des motifs. Il est conçu pour être très fiable et est également compatible avec une variété de substrats différents. Dans l'ensemble, l'USI UH 114 est une photorésistante de haute technologie qui offre des options d'imagerie avancées et des résultats d'imagerie précis. Son large éventail de caractéristiques le rend idéal pour de nombreuses industries telles que l'industrie des semi-conducteurs où la précision et la précision élevées est de la plus haute importance.