Occasion USHIO UXM-2400P #9142455 à vendre en France

USHIO UXM-2400P est un équipement de photorésistance conçu pour produire des microstructures à haute résolution pour diverses applications médicales et techniques. Le système intègre des fonctionnalités avancées telles qu'un laser pulsé à grande dispersion, des miroirs à haut contraste et haute résolution, et un générateur d'asservissement numérique à double axe. L'unité est capable de produire des caractéristiques aussi petites que 100nm avec une distribution uniforme de lumière adaptée à de nombreux processus de microfabrication. Le laser utilisé en UXM-2400P est une fréquence UV doublée Nd : YAG avec une fréquence de 393nm et une longueur d'impulsion de 100ns. Le laser Nd : YAG fournit une source pulsée de rayonnement UV de grande capacité qui est nécessaire à l'ablation des couches photorésistantes. USHIO UXM-2400P dispose également d'une machine de contrôle avancée qui permet aux utilisateurs d'ajuster des paramètres tels que la puissance, la durée d'impulsion et le débit d'impulsion précisément pour obtenir les résultats souhaités. L'outil peut être utilisé en deux modes : mode exposition et mode motif. En mode exposition, la résine photosensible est exposée à l'impulsion laser pendant un court laps de temps puis retirée. Le mode Pattern permet d'augmenter le temps d'exposition jusqu'à 30 secondes, ce qui permet de créer des formes plus complexes. UXM-2400P dispose d'un atout d'imagerie intégré qui permet aux utilisateurs de visualiser le processus en temps réel. Ce modèle est composé d'une paire d'optique télécentrique et d'une caméra haute résolution qui permet à l'utilisateur d'observer la couche de la résine au fur et à mesure de son exposition. Cela aide l'utilisateur à identifier les problèmes qui peuvent survenir au cours du processus. Le processus de photolithographie est ensuite complété à l'aide des fonctions de traitement post-exposition et humide. Le four post-exposition permet à l'utilisateur de sécher la couche de résine photosensible dans un four, tandis que le traitement humide se fait soit dans une chambre de gravure, soit dans un équipement d'extraction par pulvérisation. En résumé, USHIO UXM-2400P est un système de photorésistance conçu pour produire des microstructures à haute résolution. Il intègre un laser pulsé à large dispersion, des miroirs à haut contraste et haute résolution, et un générateur d'asservissement numérique à double axe. L'unité dispose d'une machine d'imagerie pour observer le processus en temps réel, ainsi que des fonctionnalités pour la cuisson post-exposition et le traitement par voie humide. Ensemble, ces caractéristiques permettent la fabrication précise de microstructures dans diverses applications médicales et techniques.