Occasion VERTEQ 1600-3 #9196056 à vendre en France

VERTEQ 1600-3 est un équipement photolithographique à trois faisceaux ultramoderne pour l'imagerie de diverses résistances. Il dispose d'une source laser avancée, d'un système optique et de détecteurs optiques sensibles pour garantir des résultats précis. L'unité délivre un débit élevé, une haute résolution et une grande précision de débit lorsque la variable d'imagerie résiste à des épaisseurs sur de grands substrats. 1600-3 utilise trois faisceaux laser distincts pour permettre des balayages de grande surface, avec des détecteurs optiques de champ proche pour assurer des résultats précis sur une large gamme d'épaisseurs de résistance. Les sources laser sont pilotées par un logiciel de contrôle robuste capable de fournir des performances de haut débit. Les systèmes optiques disposent de la technologie brevetée NanoFeedback™, qui surveille activement les conditions d'imagerie afin d'optimiser la précision et le débit. La machine intégrée de gestion des recettes permet l'édition rapide des recettes et l'étalonnage des paramètres du processus. L'outil est également très modulaire et peut être configuré pour des applications de lithographie de production. Différentes options de gestion de substrat sont disponibles pour la manutention de substrat, le siège de substrat et la commande d'espacement de substrat. En plus de l'imagerie, l'actif VERTEQ 1600-3 est capable de cartographie tridimensionnelle et de débit d'imagerie pouvant atteindre 25 wafers par heure. La conception unique du modèle permet également d'automatiser les équipements sous vide de haute précision, ce qui améliore l'adhérence et les performances lors de l'imagerie. De plus, le système dispose d'une bibliothèque automatisée de recettes d'imagerie pour faciliter la récupération et l'édition des recettes existantes. Dans l'ensemble, 1600-3 unités de photorésistance fournissent une imagerie fiable et précise pour les résistances de diverses épaisseurs. La conception robuste de la machine, les sources laser polyvalentes et les détecteurs sensibles en font un choix idéal pour une gamme d'applications de photolithographie, du multiplexage au masquage et à l'imagerie.