Occasion VERTEQ 1600-33 #84724 à vendre en France

VERTEQ 1600-33
Fabricant
VERTEQ
Modèle
1600-33
ID: 84724
Double stack spin rinse dryers.
VERTEQ 1600-33 est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour des applications photorésistantes dans l'industrie des semi-conducteurs. Ce système avancé est conçu pour fournir des résultats supérieurs en imagerie et développement de plaquettes. Utilisant une source lumineuse à haute puissance avec un filtre spatial intégré et un contrôleur à fréquence variable, 1600-33 offre d'excellentes performances et un rendement maximal. Grâce à son objectif avancé de projection à haute résolution, VERTEQ 1600-33 offre des performances inégalées en imagerie de plaquettes. Cette unité est conçue avec des capacités d'alignement et de tension de précision, assurant un parallélisme parfait entre le masque et le substrat et permettant une résolution maximale. De plus, ses fonctions d'étalonnage in situ permettent d'assurer la précision de l'alignement au cours de l'utilisation à long terme. Dans le processus de développement, 1600-33 offre des résultats supérieurs grâce à sa machine de reconnaissance de modèles avancée. Il utilise un logiciel avancé de reconnaissance d'image pour identifier les motifs de masques, permettant un développement à haute vitesse et haute précision. Son mécanisme swing-table unique permet un développement plus rapide et plus efficace du wafer-tilt, ce qui se traduit par une meilleure couverture et un rendement plus élevé. En termes de sécurité et de commodité, VERTEQ 1600-33 est conçu avec un grand nombre de fonctionnalités conviviales. Sa conception de passage permet au personnel de manœuvrer rapidement et en toute sécurité autour de l'outil. Son logiciel convivial est conçu pour minimiser le temps de formation des opérateurs, en veillant à ce que ceux-ci puissent commencer à travailler rapidement. Il offre également des réglages de commande de minuterie et des dossiers de maintenance pour assurer la sécurité et la précision. Dans l'ensemble, 1600-33 est un actif photorésist de pointe conçu pour une performance et un rendement maximums. Sa source lumineuse haute puissance et son logiciel avancé de reconnaissance d'image permettent d'obtenir des résultats d'imagerie et de développement supérieurs. En outre, ses nombreuses fonctionnalités conviviales réduisent le temps de formation et garantissent un fonctionnement sûr.
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