Occasion VERTEQ 1600-34 #9209715 à vendre en France

VERTEQ 1600-34
Fabricant
VERTEQ
Modèle
1600-34
ID: 9209715
Dual stack Spin Rinse Dryer (SRD).
VERTEQ 1600-34 Photoresist Equipment est un système polyvalent et fiable conçu pour répondre à des besoins spécifiques d'imagerie et de développement. L'unité comprend un étage de wafer motorisé et une source lumineuse intégrée qui permet l'imagerie haute résolution et les capacités de développement. La machine dispose d'un outil optique avancé qui fournit une plage de rotation complète de 360 degrés et un angle d'exposition contrôlable, ce qui garantit un processus fiable, précis et répétable. L'étage de plaquettes motorisé permet un alignement et un positionnement précis et reproductible de différentes tailles de plaquettes. La source lumineuse intégrée émet une distribution lumineuse uniforme et assure que les expositions sont même sur toute la surface de la plaquette. 1600-34 Photoresist Asset est conçu pour être utilisé avec différents types de photorésisistes, y compris les matériaux positifs et négatifs, les films secs et les résines liquides. Le modèle utilise une double station de rinçage, ce qui permet d'exécuter simultanément deux types différents de photorésists. Cette fonction permet également de réduire les déchets et la contamination. L'équipement comprend un système de refroidissement intégré qui aide à prévenir la surchauffe de la source lumineuse, assurant que les photorésistants ne sont pas exposés à trop de chaleur. L'unité dispose également d'une machine de commande intégrée, qui permet un réglage facile de l'intensité d'exposition et assure un traitement cohérent des plaquettes. L'outil est conçu pour être facile à utiliser et à entretenir, offrant des contrôles conviviaux intuitifs et un outil de surveillance complet. Le modèle est livré avec une surveillance intégrée de la performance, des pistes d'audit et des registres d'erreurs. Dans l'ensemble, VERTEQ 1600-34 Photoresist Equipment est un système économique et fiable qui peut répondre aux besoins d'un large éventail d'applications. Avec son optique avancée, son étage de wafer motorisé et ses options d'exposition flexibles, c'est un choix idéal pour ceux qui recherchent une unité de haute qualité pour leurs besoins de traitement photorésist.
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